Download or read book DEFAUTS INDUITS DANS LE SILICIUM PAR LE GRAVURE PLASMA written by AMRANE.. BELKACEM and published by . This book was released on 1991 with total page pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: LES PROBLEMES INHERENTS A LA GRAVURE PLASMA EN GENERAL ET LES PMM EN PARTICULIER, ONT ETE ETUDIES. AU COURS DE CE TRAVAIL, NOUS AVONS MONTRE QUE LE PROFIL DE DOPAGE DES SUBSTRATS SI DE TYPE P, PERTURBE PAR L'INTRODUCTION D'HYDROGENE DURANT LA GRAVURE POUVAIT ETRE RESTAURE PAR UN SIMPLE TRAITEMENT THERMIQUE A 200C. NOUS AVONS EGALEMENT MONTRE PAR DLTS, QUE QUATRE NIVEAUX PROFONDS (DEUX DANS SI-P ET DEUX DANS SI-N) ETAIENT SYSTEMATIQUEMENT GENERES PAR CETTE OPERATION. UNE ANALYSE DETAILLEE DE CES NIVEAUX A MONTRE QUE DEUX D'ENTRE EUX SONT DUS A DES DEFAUTS D'IRRADIATION SIMPLES, ALORS QUE L'ORIGINE DES DEUX AUTRES PEUT ETRE ATTRIBUEE A UN DEFAUT COMPLEXE ASSOCIANT DEFAUT D'IRRADIATION ET CONTAMINATION PAR DES ESPECES SF#X. AFIN DE S'EN AFFRANCHIR, NOUS AVONS OPTIMISE LE PROCEDE DE GRAVURE (DETERMINATION D'UNE GAMME DE POLARISATION ENTRAINANT UNE GRAVURE S'ACCOMPAGNANT DE PEU OU PAS DE DEFAUTS). UN TRAITEMENT THERMIQUE APPROPRIE PERMET EGALEMENT DE REDUIRE SENSIBLEMENT LA CONCENTRATION DES DEFAUTS EVENTUELLEMENT PRESENTS VOIRE LES ELIMINER TOTALEMENT. PAR AILLEURS, UNE FORTE CONTAMINATION METALLIQUE A ETE OBSERVEE. UNE ANALYSE FINE DE CE TYPE DE POLLUTION A MONTRE QU'ELLE ETAIT LIEE A LA STRUCTURE MEME DES REACTEURS UTILISES ET POUVAIT ETRE CONSIDERABLEMENT ELIMINEE SINON REDUITE PAR: I) UNE AMELIORATION DE LA STRUCTURE DU REACTEUR; II) UN TRAITEMENT ADEQUAT DES PAROIS DU REACTEUR. DANS TOUS LES CAS DE FIGURE, NOUS AVONS CLAIREMENT DEMONTRE QU'UN TRAITEMENT RCA EFFECTUE APRES GRAVURE SUPPRIMAIT TOUTE POLLUTION RESIDUELLE (DEFAUTS OU CONTAMINATION METALLIQUE). ENFIN, NOUS AVONS MIS EN EVIDENCE QUE LA GRAVURE PERTURBE SENSIBLEMENT LA SURFACE DU MATERIAU. CE PROBLEME A ETE RESOLU PAR L'AMELIORATION DU PROCEDE DE GRAVURE ET PAR L'UTILISATION D'UN NETTOYAGE DE SURFACE ADEQUAT

Download or read book D fauts induits dans le silicium par la gravure en plasma de SF6 written by Amrane Belkacem and published by . This book was released on 1991 with total page 0 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book ETUDE DES PHENOMENES PHYSIQUES ASSOCIES A L OUVERTURE DES CONTACTS DANS L OXYDE DE SILICIUM PAR GRAVURE PLASMA written by CYRIL.. LE GOFF and published by . This book was released on 1998 with total page 158 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: LE PRESENT TRAVAIL EST CONSACRE A L'ETUDE D'UNE IMPORTANTE ETAPE TECHNOLOGIQUE DE LA FABRICATION DES CIRCUITS INTEGRES CMOS ULSI, A SAVOIR : L'OPERATION D'OUVERTURE DES TROUS DE CONTACT. LA GRAVURE DE L'OXYDE DE SILICIUM EST REALISEE DANS UN REACTEUR INDUSTRIEL DE TYPE DIODE RADIOFREQUENCE, EN PLASMA CHF#3-CF#4-AR. L'INFLUENCE DES PARAMETRES DU REACTEUR SUR LA GRAVURE DE L'OXYDE, DU MASQUE DE RESINE ET DU SUBSTRAT DE SILICIUM SOUS-JACENT EST EXAMINEE SUIVANT LA METHODE DES PLANS D'EXPERIENCES. EN OUTRE, UN RETICULE PERMETTANT DE REPRODUIRE SUR LE MASQUE DE RESINE DES RESEAUX DE LIGNES ET DE CONTACTS DE DIMENSIONS 1 ET 0,6 M EST UTILISE POUR ETUDIER LES EFFETS DE TOPOGRAPHIE. LA CARACTERISATION DU PROCEDE EST EFFECTUEE PAR LA MESURE DES VITESSES D'ATTAQUE, DE L'UNIFORMITE, DES SELECTIVITES, DU PROFIL ET DES DIMENSIONS DES MOTIFS GRAVES, ET DES RESISTANCES DE CONTACT METAL/SI. L'ANALYSE PAR SPECTROMETRIE DE PHOTOELECTRONS XPS DES SURFACES TRAITEES PERMET DE COMPRENDRE LES TENDANCES OBSERVEES, NOTAMMENT EN TERME DE SELECTIVITE OXYDE/SILICIUM. UNE ETUDE PLUS DETAILLEE DES MODIFICATIONS DE SURFACE DU SUBSTRAT DE SILICIUM EXPOSE AU PLASMA CHF#3-CF#4-AR EST AUSSI ENTREPRISE. NOUS NOUS FOCALISONS SUR LA COUCHE D'INTERFACE FILM (F, C)/SUBSTRAT ET SUR L'ETAT CRISTALLIN DU SILICIUM. ENFIN, LA CARACTERISATION DES SURFACES APRES TRAITEMENTS POST-GRAVURE EN PLASMA CF#4 OU CF#4-O#2 PERMET DE S'ASSURER DE L'ELIMINATION DES DEFAUTS INDUITS PAR L'ETAPE DE GRAVURE. L'OBJECTIF EST DE RESTAURER LA SURFACE DU SILICIUM AFIN D'AMELIORER LES PERFORMANCES ELECTRIQUES DES CIRCUITS CMOS. LES EFFETS DE LA CHIMIE DU PLASMA, DU TEMPS DE TRAITEMENT, DE LA TAILLE ET DE LA GEOMETRIE DES MOTIFS SUR L'ETAT DE SURFACE DU SILICIUM SONT ETUDIES AU MOYEN DE LA SPECTROMETRIE XPS.

Download or read book Gravure s lective et sans dommage du silicium en mode triode synchronis assist e d un champ magn tique written by Bernard Bouyer and published by . This book was released on 1990 with total page 250 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: CE MEMOIRE DECRIT LA MISE EN UVRE D'UN REACTEUR DE GRAVURE ET DE PROCEDES ASSOCIES, APPLIQUES AUX DISPOSITIFS A TRANSFERT DE CHARGE (D.T.C.) APRES UNE ANALYSE TRES SCHEMATIQUE DES PARAMETRES DE GRAVURE, NOUS AVONS DEVELOPPE UN DISPOSITIF EXPERIMENTAL UTILISANT DEUX ELECTRODES EXCITEES EN RADIO-FREQUENCE ET UNE BOBINE MAGNETIQUE. UN SYSTEME ORIGINAL DE SYNCHRONISATION DES SIGNAUX APPLIQUES AUX DEUX ELECTRODES ACTIVES A PERMIS DE CONTROLER, D'UNE FACON INDEPENDANTE, LA TENSION D'AUTO-POLARISATION SUR L'ELECTRODE BASSE. UNE CATHODE ORIGINALE A CHAMP MAGNETIQUE DYNAMIQUE COMPENSE A PERMIS DE DENSIFIER LA DECHARGE. NOUS AVONS EVALUE LES MECANISMES ET LES PERFORMANCES DE GRAVURE DU REACTEUR AVEC DES GAZ CHLORES ET FLUORES. DANS LE CAS D'UNE FORTE TOPOLOGIE, L'ANISOTROPIE DE GRAVURE LAISSE DES RESIDUS DE SILICIUM AU PIED DES MOTIFS APPELES ESPACEUR. LEUR ELIMINATION A NECESSITE LA MISE EN UVRE D'UN TROISIEME GAZ DE GRAVURE L'ACIDE BROMHYDRIQUE HBR QUI, GRACE A SES PROPRIETES, PERMET A LA FOIS DE GRAVER LES ESPACEURS ET DE PROTEGER LES FLANCS DES MOTIFS. L'UTILISATION JUDICIEUSE DE CES TROIS GAZ A PERMIS DE SATISFAIRE AU CAHIER DES CHARGES DE LA GRAVURE DES GRILLES C.C.D. LES DEFAUTS INDUITS PAR LA GRAVURE PLASMA ONT ETE CARACTERISES A PARTIR DES METHODES D'ANALYSE DU SILICIUM EN VOLUME (C-V, Q#B#D). LA NATURE DES PASSIVATIONS ONT ETE DETERMINEES PAR DES ANALYSES DE SURFACE (XPS, AUGER). L'UTILISATION DU REACTEUR AVEC LES AMELIORATIONS APPORTEES: SYNCHRONISATION DES GENERATEURS, CHAMP MAGNETIQUE DYNAMIQUE ET L'ASSOCIATION D'UNE CHIMIE APPROPRIEE ONT PERMIS DE REALISER DES GRAVURES DE GRILLE D.T.C. AVEC D'EXCELLENTES PERFORMANCES ET DES TAUX DE DEFAUTS REDUITS. CES RESULTATS DEVRAIENT PERMETTRE D'AMELIORER L'EFFICACITE DE TRANSFERT DES CIRCUITS D.T.C.

Download or read book D veloppement de nouvelles technologies de gravure written by Odile Mourey and published by . This book was released on 2017 with total page 0 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: La course à la miniaturisation des dispositifs oblige les industriels a développé sans cesse de nouvelles technologies de gravure afin de contourner les limites imposées par les procédés plasmas continus CW à haute densité. Parmi ces nouvelles technologies on trouve, les plasmas pulsés en impulsion courtes introduits depuis une dizaine d'année et le procédé de gravure cyclée développé très récemment par Applied Materials. Ces deux types de procédés de gravure présentent la caractéristique d'avoir un faible flux d'ions. Au premier abord, cette faible densité d'ions énergétiques permet la diminution des défauts induits par les ions. Cependant, un problème se pose lorsque le nombre d'ions impactant la surface devient trop faible (moins de 1 ions/site atomique/s). Ce travail de thèse se concentre donc ici sur l'étude de l'impact de la stochasticité du bombardement ionique sur l'état de la surface dans les deux procédés de gravure utilisés. Dans un premier temps, nous avons focalisé notre travail sur l'interaction entre les plasmas pulsés de chlore puis d'HBr et le silicium. A faible rapport de cycle, une très forte rugosité de surface a été observée sans lien avec un phénomène de micro-masquage. Des diagnostics plasma ont révélés que la présence d'un très faible flux d'ions énergétique couplé avec forte réactivité chimique engendre une forte augmentation du taux de gravure créant ainsi la rugosité de surface. Dans un second temps, l'étude du plasma capacitif d'hydrogène utilisé pour la modification du SiN durant le procédé de gravure cyclée a montré après retrait de la couche modifiée en plasma délocalisé, la présence d'une rugosité de surface au sommet des espaceurs nitrure qui n'est pas acceptable pour l'application du « simplified quadruple patterning ». Une étude paramétrique de l'état de surface a permis de mettre en évidence l'impact direct de la faible quantité d'ions H+ reçue par le matériau et la rugosité observée. La stochasticité du bombardement ionique implique donc une modification inhomogène du SiN qui est révélée lors de la phase de retrait et amplifiée au cours des cycles générant une rugosité de surface.Mots-clés : Microélectronique, procédés de gravure, plasma, stochasticité, ions.

Download or read book M canismes physico chimiques dans le proc d de gravure plasma du Silicium written by Xavier Mellhaoui and published by . This book was released on 2006 with total page 18 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Dans l’industrie de la microtechnologie, la gravure profonde du silicium permet l’obtention de structures à fort rapport d’aspect (MEMS, MOEMS, vias, caissons d’isolation...). La cryogravure est l’une des voies pour réaliser ces structures. L’objet de cette thèse est l’étude des mécanismes de formation de la couche de passivation SiOxFy dans le procédé cryogénique de gravure par plasma SF6/O2 du silicium. Cette couche ne se forme uniquement qu’à basse température (~ -100°C). Elle désorbe lors de la remontée en température à l’ambiant du substrat en libérant des espèces analysables par spectrométrie de masse. La principale espèce détectée est le produit de gravure SiF4. En testant des plasmas de construction de la couche avec le SiF4, nous avons trouvé deux mécanismes possibles de formation de la couche SiOxFy. Afin de compléter l’étude, nous avons installé un ellipsomètre spectroscopique in-situ afin de caractériser l’interaction de différents plasmas (Ar, SF6, O2, SF6/O2, SiF4/O2) avec le silicium montrant ainsi l’effet de la température du substrat et du flux d’ions. En régime de surpassivation, les MicroStructures Colonnaires, défaut du procédé de cryogravure, apparaissent au fond du motif. Une étude paramétrique de ces structures est effectuée en variant les conditions du plasma (température, Vbias, puissance de la source, pression et temps).

Download or read book Annales des t l communications written by and published by . This book was released on 1999 with total page 622 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book ICREEC 2019 written by Ahmed Belasri and published by Springer Nature. This book was released on 2020-06-10 with total page 659 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: This book highlights peer reviewed articles from the 1st International Conference on Renewable Energy and Energy Conversion, ICREEC 2019, held at Oran in Algeria. It presents recent advances, brings together researchers and professionals in the area and presents a platform to exchange ideas and establish opportunities for a sustainable future. Topics covered in this proceedings, but not limited to, are photovoltaic systems, bioenergy, laser and plasma technology, fluid and flow for energy, software for energy and impact of energy on the environment.

Download or read book Comsat Technical Review written by Communications Satellite Corporation and published by . This book was released on 1988 with total page 724 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book Chimie en micro lectronique written by LE TIEC Yannick and published by Lavoisier. This book was released on 2013-07-01 with total page 386 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: La microélectronique est un monde complexe dans lequel plusieurs sciences comme la physique, l’électronique, l’optique ou la mécanique, contribuent à créer des nano-objets fonctionnels. La chimie est particulièrement impliquée dans de nombreux domaines tels que la synthèse des matériaux, la pureté des fluides, des gaz, des sels, le suivi des réactions chimiques et de leurs équilibres ainsi que la préparation de surfaces optimisées et la gravure sélective de couches spécifiques. Au cours des dernières décennies, la taille des transistors s’est considérablement réduite et la fonctionnalité des circuits électroniques s’est accrue. Cette évolution a conduit à une interpénétration de la chimie et de la microélectronique exposée dans cet ouvrage. Chimie en microélectronique présente les chimies et les séquences utilisées lors des procédés de production de la microélectronique, des nettoyages jusqu’aux gravures des plaquettes de silicium, du rôle et de l’impact de leur niveau de pureté jusqu’aux procédés d’interconnexion des millions de transistors composant un circuit électronique. Afin d’illustrer la convergence avec le domaine de la santé, l’ouvrage expose les nouvelles fonctionnalisations spécifiques, tels que les capteurs biologiques ou les capteurs sur la personne.

Download or read book Molecular Beam Epitaxy written by John Wilfred Orton and published by . This book was released on 2015 with total page 529 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: The book is a history of Molecular Beam Epitaxy (MBE) as applied to the growth of semiconductor thin films (note that it does not cover the subject of metal thin films). It begins by examining the origins of MBE, first of all looking at the nature of molecular beams and considering their application to fundamental physics, to the development of nuclear magnetic resonance and to the invention of the microwave MASER. It shows how molecular beams of silane (SiH4) were used to study the nucleation of silicon films on a silicon substrate and how such studies were extended to compound semiconductors such as GaAs. From such surface studies in ultra-high vacuum the technique developed into a method of growing high quality single crystal films of a wide range of semiconductors. Comparing this with earlier evaporation methods of deposition and with other epitaxial deposition methods such as liquid phase and vapour phase epitaxy (LPE and VPE). The text describes the development of MBE machines from the early 'home-made' variety to that of commercial equipment and show how MBE was gradually refined to produce high quality films with atomic dimensions. This was much aided by the use of various in-situ surface analysis techniques, such as reflection high energy electron diffraction (RHEED) and mass spectrometry, a feature unique to MBE. It looks at various modified versions of the basic MBE process, then proceed to describe their application to the growth of so-called 'low-dimensional structures' (LDS) based on ultra-thin heterostructure films with thickness of order a few molecular monolayers. Further chapters cover the growth of a wide range of different compounds and describe their application to fundamental physics and to the fabrication of electronic and opto-electronic devices. The authors study the historical development of all these aspects and emphasise both the (often unexpected) manner of their discovery and development and the unique features which MBE brings to the growth of extremely complex structures with monolayer accuracy.

Download or read book Basic Concepts for Simple and Complex Liquids written by Jean-Louis Barrat and published by Cambridge University Press. This book was released on 2003-03-27 with total page 410 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Presenting a unified approach, this book focusses on the concepts and theoretical methods that are necessary for an understanding of the physics and chemistry of the fluid state. The authors do not attempt to cover the whole field in an encyclopedic manner. Instead, important ideas are presented in a concise and rigorous style, and illustrated with examples from both simple molecular liquids and more complex soft condensed matter systems such as polymers, colloids, and liquid crystals.

Download or read book On the Continuity of the Gaseous and Liquid States written by J. D. Van Der Waals and published by Courier Corporation. This book was released on 2004-01-01 with total page 336 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: This much-cited thesis by J. D. van der Waals, the recipient of the 1910 Nobel Prize in physics, is accompanied by an introductory essay by J. S. Rowlinson and another work by van der Waals on the theory of liquid mixtures. 1988 edition.

Download or read book TOF Range Imaging Cameras written by Fabio Remondino and published by Springer Science & Business Media. This book was released on 2013-04-09 with total page 243 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Today the cost of solid-state two-dimensional imagers has dramatically dropped, introducing low cost systems on the market suitable for a variety of applications, including both industrial and consumer products. However, these systems can capture only a two-dimensional projection (2D), or intensity map, of the scene under observation, losing a variable of paramount importance, i.e., the arrival time of the impinging photons. Time-Of-Flight (TOF) Range-Imaging (TOF) is an emerging sensor technology able to deliver, at the same time, depth and intensity maps of the scene under observation. Featuring different sensor resolutions, RIM cameras serve a wide community with a lot of applications like monitoring, architecture, life sciences, robotics, etc. This book will bring together experts from the sensor and metrology side in order to collect the state-of-art researchers in these fields working with RIM cameras. All the aspects in the acquisition and processing chain will be addressed, from recent updates concerning the photo-detectors, to the analysis of the calibration techniques, giving also a perspective onto new applications domains.

Download or read book In Vessel Melt Retention and Ex Vessel Corium Cooling IAEA Tecdoc No 1906 written by International Atomic Energy Agency and published by International Atomic Energy Agency. This book was released on 2020-08-06 with total page 72 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: This publication results from a technical meeting on phenomenology and technologies relevant to in-vessel melt retention (IVMR) and ex-vessel corium cooling (EVCC). The purpose of the publication is to capture the state of knowledge, at the time of that meeting, related to phenomenology and technologies as well as the challenges and pending issues relevant to IVMR and EVCC for water cooled reactors by summarizing the information provided by the meeting participants in a form useful to practitioners in Member States.

Download or read book Introduction to Focused Ion Beams written by Lucille A. Giannuzzi and published by Springer Science & Business Media. This book was released on 2006-05-18 with total page 362 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Introduction to Focused Ion Beams is geared towards techniques and applications. This is the only text that discusses and presents the theory directly related to applications and the only one that discusses the vast applications and techniques used in FIBs and dual platform instruments.

Download or read book An Introduction to Differential Manifolds written by Jacques Lafontaine and published by Springer. This book was released on 2015-07-29 with total page 408 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: This book is an introduction to differential manifolds. It gives solid preliminaries for more advanced topics: Riemannian manifolds, differential topology, Lie theory. It presupposes little background: the reader is only expected to master basic differential calculus, and a little point-set topology. The book covers the main topics of differential geometry: manifolds, tangent space, vector fields, differential forms, Lie groups, and a few more sophisticated topics such as de Rham cohomology, degree theory and the Gauss-Bonnet theorem for surfaces. Its ambition is to give solid foundations. In particular, the introduction of “abstract” notions such as manifolds or differential forms is motivated via questions and examples from mathematics or theoretical physics. More than 150 exercises, some of them easy and classical, some others more sophisticated, will help the beginner as well as the more expert reader. Solutions are provided for most of them. The book should be of interest to various readers: undergraduate and graduate students for a first contact to differential manifolds, mathematicians from other fields and physicists who wish to acquire some feeling about this beautiful theory. The original French text Introduction aux variétés différentielles has been a best-seller in its category in France for many years. Jacques Lafontaine was successively assistant Professor at Paris Diderot University and Professor at the University of Montpellier, where he is presently emeritus. His main research interests are Riemannian and pseudo-Riemannian geometry, including some aspects of mathematical relativity. Besides his personal research articles, he was involved in several textbooks and research monographs.