Download or read book Conception et realisation de transistors a effet de champ de la filiere AlinAs GainAs sur substrat InP Application a l amplification faible bruit en ondes millimetriques written by Pascal Chevalier (ingénieur) and published by . This book was released on 1998 with total page 0 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book Conception et r alisation de transistors effet de champ de la fili re AlInAs GaInAs sur substrat InP written by Pascal Chevalier (ingénieur).) and published by . This book was released on 1998 with total page 364 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: L'essor des applications hyperfrequences fonctionnant en ondes millimetriques necessite le developpement de nouvelles filieres de circuits integres. Un composant clef de ces circuits est le transistor a effet de champ a heterojonction : le hemt (high electron mobility transistor). Nous developpons dans ce memoire les resultats de l'etude de hemt alinas/gainas realises sur phosphure d'indium (inp). Apres avoir introduit les bases relatives au fonctionnement et aux domaines d'applications de ce transistor, nous presentons les outils theoriques et experimentaux utilises pour nos travaux. Ces derniers contribuent d'une part a la mise au point technologique et d'autre part a l'optimisation de la structure epitaxiale. Les recherches menees en technologie concernent principalement la technologie de grille et plus particulierement la lithographie electronique des grilles en te en tricouche de resines. La realisation de grilles de 100 nm de longueur, de faible resistivite, a permis la fabrication de transistors performants, presentant notamment une frequence de coupure extrinseque f#t proche de 250 ghz et une transconductance intrinseque de 1,5 s/mm. L'optimisation de l'epitaxie, visant a depasser les limitations des transistors a canal gainas adapte en maille sur le substrat, a conduit a l'etude des canaux composites gainas/inp. Nous avons mis en evidence leur efficacite pour reduire le phenomene d'ionisation par impact et ainsi ameliorer les performances du composant. Les performances en puissance de transistors a canal gainas/inp/inp n#+ (355 mw/mm a 60 ghz) ont montre toutes les potentialites de structures a canal composite pour la generation de puissance en ondes millimetriques.

Download or read book Conception r alisation et caract risation de transistors effet de champ h t rojonction sur substrat d InP pour circuits int gr s coplanaires en bandes V et W written by Virginie Hoel and published by . This book was released on 2013 with total page 0 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Les nouvelles applications necessitent des frequences de travail toujours plus elevees. Pour cela, nous souhaitons realiser des circuits amplificateurs faible bruit performants en technologie coplanaire travaillant en gamme d'ondes millimetriques. Le composant cle pour realiser ces circuits est le transistor a effet de champ a heterojonction hemt (high electron mobility transistor). Par consequent, nous developpons dans ce memoire la conception, la realisation et la caracterisation de transistors hemts performants de longueur de grille submicronique en technologie coplanaire. La technologie utilisee pour realiser la grille est de type nitrure. Les transistors sont naturellement passives par une couche de nitrure de silicium de 800a qui protege la zone active. Le pied de grille est insere dans cette couche de dielectrique ce qui permet d'obtenir des grilles robustes avec des longueurs de grille inferieures a 0.1 m. Ce travail, soutenu financierement par la dga, fait l'objet d'une collaboration avec la societe dassault electronique. Nous presentons le principe de fonctionnement et les differentes structures hemts. L'etat de l'art permet de constater la superiorite des heterojonctions alinas/gainas sur substrat inp. Les hemts sont donc realises sur des structures alinas/gainas adaptees en maille sur inp realisees au laboratoire. Nous etudions ensuite la conception des motifs transistors adaptes a la realisation de circuits integres en technologie coplanaire. Puis, nous decrivons les differentes etapes technologiques qu'il a fallu optimiser pour aboutir a la realisation de hemts performants avec un bon rendement de fabrication. Nous etudions les performances hyperfrequences et en bruit des transistors.

Download or read book Al1 xInxAs Ga1 xInxAs high electron mobility transistor on GaAs and InP for power millimeter applications written by Mustafa Boudrissa and published by . This book was released on 2001 with total page 496 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Ce travail concerne l'étude des potentialités de deux filières de transistor HEMT AlInAs/GaInAs pour les applications de puissance en ondes millimétriques. Nous avons fait appel à un outil de simulation, à la technologie et de la caractérisation pour mener à bien cette étude. Une étude de la topologie de la couche de contact a été menée grâce à un logiciel de simulation hydrodynamique bidimensionnel sur des structures métamorphiques. Nous avons effectué une analyse du claquage du composant en fonction du dopage et de l'épaisseur grâce à la répartition de grandeurs physiques telles que le champ électrique et l'énergie des porteurs. Les composants ont été fabriqués grâce aux outils de la technologie. L'élément clé a été le fossé de grille. Un profil uniforme du fossé de grille, une bonne tenue mécanique du métal et de bonnes caractéristiques électriques de grille n'ont pu être obtenues qu'en modifiant l'agent mouillant qui a permis de réduire cette étape. C'est la première fois qu'une étude sur les courants de grille issus du phénomène d'ionisation par impact est menée en fonction de la topologie du composant. Les résultats obtenus sont à l'état de l'art dans les deux filières. Dans la filière métamorphique sur GaAs, une densité de puissance de 100mW/mm (resp. 140mW/mm) a pu être obtenue à l'aide d'un banc load-pull à 10GHz sur un HEMT métamorphique à couche de contact fine (resp. épaisse) fonctionnant à accumulation de charge (Enhancement-Mode). De même, sur les composants à canal composite de la filière InP, une densité de puissance à 60GHz de 420mW/mm a été obtenue sur une structure et une topologie optimisées. Les composants à large extension grille drain ont permis à la fois d'obtenir de faibles courants de grille et d'améliorer la puissance de sortie.

Download or read book tude et fabrication de transistors enrichissement de la fili re InAlAs InGaAs pour applications millim triques faible bruit written by Ikram El Makoudi and published by . This book was released on 2010 with total page 179 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Pour les applications électroniques analogiques, des composants fonctionnant en hautes fréquences avec un faible niveau de bruit sont nécessaires. Pour le développement de circuits numériques hauts débits de type DCFL, il faut utiliser des transistors à effet de champ à tensions de seuil positives. De plus, la tenue en tension est aussi une contrainte. La structure HEMT métamorphique à enrichissement AlInAs/GaInAs sur GaAs développée par la société OMMIC en 2007 répond à ces exigences et constitue le point de départ de cette étude. Le but de cette thèse est en effet de fournir une structure de HEMTs à enrichissement (E-HEMTs) de la filière AlInAs/InGaAs pour applications faible bruit sur substrat InP, afin de tirer profit de sa forte mobilité électronique, tout en maintenant de bonnes caractéristiques statiques et dynamiques. Notre travail d’optimisation, de réalisation et de caractérisation de structures permet d’atteindre des fréquences de coupure FT, FMAX de respectivement 204 GHz et 327 GHz, pour un NFmin de 0.96 dB et un gain associé de 13.2 dB à 30 GHz, pour des structures présentant d’excellentes performances statiques : tension de seuil positive de 30 mV, tension de claquage grille - drain de –7 V, transconductance de 1040 mS/mm. Ces résultats placent ce HEMT sur InP à l’état de l’art des transistors HEMTs à enrichissement, et en font un concurrent des transistors HEMTs à déplétion pour les applications faible bruit.

Download or read book R alisation et caract risation de transistors effet de champ h t rojonction de la fili re AlInAs GaInAs pour applications en ondes millim triques written by Hervé Fourre and published by . This book was released on 1997 with total page 184 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Ce travail presente l'etude, la realisation et la caracterisation de transistors a heterojonction alinas/gainas dans les differentes filieres existantes, a savoir: adaptee en maille sur inp (lm), pseudomorphique sur inp (pm) et metamorphique sur gaas (mm). La mobilite des electrons dans le gainas et la discontinuite de bande de conduction entre les deux materiaux en font en effet d'excellents candidats pour les applications en ondes millimetriques. Une attention particuliere a ete apportee aux structures metamorphiques avec une comparaison des differents types de couches tampon en terme de relaxation de la contrainte et de caracteristiques du gaz d'electrons bidimensionnel. De meme, une etude par simulation a l'aide du logiciel helena a permis de montrer le potentiel des structures metamorphiques 40% d'indium pour des applications de puissance dans le domaine hyperfrequences et faible bruit. Pour la definition d'un procede de fabrication en technologie nitrure dans chacune des filieres, une optimisation des differentes etapes entrant dans la realisation des transistors a ete effectuee. Cette optimisation a permis en particulier la definition de procedes d'isolation par implantation constituant l'etat de l'art dans les filieres lm et pm sur inp et de procedes de gravure de fosse de grille par attaque chimique selective par voie humide. Cette etude a par ailleurs montre la difficulte de realiser de bons contacts ohmiques sur les structures mm 30% d'indium et ce malgre l'amelioration apportee par les contacts de type debordant. Pour valider les procedes de fabrication mis en place dans chacune des filieres et montrer la faisabilite des composants isoles par implantation, des transistors a grille longue et a grille submicronique ont ete realises puis caracterises.

Download or read book Etude des transistors effet de champ de type HEMT sur substrat GaAs et InP pour l amplification de puissance en gamme millim trique written by Frédéric Diette and published by . This book was released on 2013 with total page 0 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Ce travail concerne le developpement des transistors hemts dans les filieres gaas et inp pour l'amplification de puissance en gamme millimetrique. La premiere partie de ce travail traite des differentes etapes technologiques relatives aux deux filieres etudiees. Si dans le cas de la filiere gaas, les parametres technologiques n'ont pas necessite de reelle amelioration pour la realisation d'un transistor elementaire, nous avons du developper les etapes relatives aux transistors a grand developpement. Dans le cas de la filiere inp, toutes les etapes technologiques (contacts ohmiques et schottky, gravure selective et lithographie de grille a trois couches de resine) ont necessite un effort particulier quant a leur optimisation. Le deuxieme partie de ce travail est consacree a l'etude de la filiere inp. Des etudes de parametres technologiques et de couches actives se concretisent par la realisation d'un grand nombre de transistors avec la longueurs de grille de 0,25 m.. La caracterisation statique et hyperfrequence, nous a permis dans un premier temps, de mettre en evidence les principales limitations de cette filiere. Ces resultats ont servi dans un deuxieme temps, a definir deux structures originales. L'une d'entre elle nous a permis d'egaler l'etat de l'art en puissance a 60 ghz. La derniere partie presente les travaux menes dans la filiere gaas. Dans un premier temps, nous presentons les resultats d'etudes technologiques sur des epitaxies a un ou deux canaux pseudomorphiques. La validation de ces etudes s'est faite, en plus de la caracterisation statique ou hyperfrequence en petit signal, par la caracterisation en puissance a 26 ghz. Enfin, nous presentons les resultats d'un transistor de type metamorphique (alinas/gainas sur un substrat gaas).

Download or read book Conception Et R alisation de Transistors Effet de Champ 94 Ghz written by Farid Medjdoub and published by Omniscriptum. This book was released on 2011-12 with total page 176 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: L'objectif de ce travail est la conception et la réalisation de transistors à effet de champ (TEC) sur substrat InP pour l'amplification de puissance en bande W. Le but est d'étudier les potentialités en puissance de différents TEC dans la filière InP à 94 GHz. La montée en fréquence requiert la diminution des dimensions du composant, ce qui est assurément défavorable à une bonne tenue en tension. Notre défi était de tenter d'élaborer des transistors capables de fonctionner à cette fréquence et possédant une tension de claquage élevée. Une structure à canal InAsP délivrant une fréquence de coupure de 140 GHz, une fréquence maximum d'oscillation de 430 GHz et un gain maximum disponible à 94 GHz de 13 dB avec une grille de 70 nm nous a permis d'atteindre l'état de l'art mondial en puissance à 94 GHz des HEMTs sur substrat InP.

Download or read book Etude th orique et optimisation de transistors effet de champ de la fili re InP et de la fili re GaN written by François Dessenne and published by . This book was released on 2013 with total page 0 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Notre etude contribue a l'analyse du fonctionnement physique des transistors a effet de champ par la methode de monte carlo. Notre but est de presenter des ameliorations aux concepteurs dans les domaines de l'amplification faible bruit en gamme millimetrique d'une part et de l'amplification de puissance d'autre part. Dans le premier chapitre, apres avoir passe en revue les differentes possibilites de transistors a effet de champ capables de satisfaire a notre cahier des charges, nous estimons leurs potentialites et leurs limitations respectives. Les chapitres ii et iii nous permettent de decrire notre programme de simulation du transport de charges dans les semi-conducteurs massifs et dans les dispositifs destines a l'hyperfrequence. Pour la filiere inp, le simulateur a ete adapte a la modelisation de hemt (high electron mobility transistor) a grille largement submicronique et presentant des discontinuites de bande elevees. Dans le quatrieme chapitre, nous menons l'examen des performances de hemt al0.48in0.52as/ga0.47in0.53as/inp destines a l'amplification faible bruit a 60 et 94 ghz, tant sur le plan theorique que sur le plan experimental. Il apparait clairement que la presence d'ionisation par choc dans le canal de ces transistors degrade de maniere importante leurs caracteristiques hyperfrequences. Afin d'optimiser ces composants, plusieurs solutions sont alors proposees avec un avantage pour l'utilisation d'un canal composite gainas/inp. La realisation de lmhemt avec ce type de canal confirme nos predictions en offrant une elevation du gain intrinseque en tension de plus de 60% dans le cas d'un canal avec une couche d'inp dope, par rapport a la structure conventionnelle.

Download or read book Conception et r alisation de transistors effet de champ h t rojonction sur substrat InP pour amplification de puissance en bande W written by Farid Medjdoub and published by . This book was released on 2004 with total page 173 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Ce procédé nous permet d'éloigner la surface du gaz bidimensionnel de manière à obtenir un courant de drain élevé et éviter l'effet kink tout en maintenant un rapport d'aspect favorable pour les grilles sub-1OO nm. Il apparaît que les fréquences de coupure Ft évoluent de manière croissante en fonction de la réduction de la longueur de grille. Nous avons atteint des fréquences Ft et Fmax respectives de 210 GHz et 420 GHz. Ce procédé étant validé, nous l'avons appliqué aux structures comportant des canaux tels que l'InP et l'InAsP. Nous sommes parvenus à une fréquence de coupure de 125 GHz et une fréquence maximum d'oscillation de 380 GHz avec une grille de 50 nm pour la structure à canal InP, ce qui représentent les meilleures performances fréquentielles obtenues jusqu'à présent sur ce type de composant. Sur la structure à canal InAsP, nous atteignons une fréquence de coupure de 140 GHz, une fréquence maximum d'oscillation de 430 GHz et un gain maximum disponible à 94 GHz de 13 dB avec une grille de 70 nm. Sa faible ̧conductance de sortie comparée à la structure à canal GaInAs, associée à la barrière composite nous a permis d'atteindre l'état de l'art mondial en puissance des HÉMTs sur substrat InP.

Download or read book Etude et r alisation de transistors effet de champ canal InP pour l int gration opto lectronique written by Kamal Naït-Zerrad and published by . This book was released on 1995 with total page 135 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: CE TRAVAIL EST CONSACRE A L'ETUDE ET A LA REALISATION DE TRANSISTORS A EFFET DE CHAMP A HETEROSTRUCTURE (HFET) A CANAL INP DOPE ET A BARRIERE ALINAS NON DOPE, SUR SUBSTRAT INP SEMI-ISOLANT, POUR L'INTEGRATION OPTOELECTRONIQUE. LE CHAPITRE INTRODUCTIF PRESENTE LES PROPRIETES DES COMPOSES III-V ET EN PARTICULIER L'INTERET DU PHOSPHURE D'INDIUM, AINSI QUE LES DIFFERENTES STRUCTURES DE FET DEVELOPPEES AVEC DE L'INP COMME COUCHE ACTIVE. DANS LE CHAPITRE SUIVANT, NOUS DETERMINONS LES STRUCTURES DE HFETS, A L'AIDE DE SIMULATIONS NUMERIQUES ET SUIVANT LES APPLICATIONS ENVISAGEES. LES DIFFERENTES TECHNOLOGIES UTILISEES DANS CE TRAVAIL -CONVENTIONNELLE, A GRILLE SUSPENDUE ET AUTO-ALIGNEE- SONT ALORS PRESENTEES. LES PERFORMANCES STATIQUES ET DYNAMIQUES OBTENUES SUR CES TRANSISTORS SONT DETAILLEES DANS LE TROISIEME CHAPITRE. NOUS COMPARONS LES DIFFERENTES STRUCTURES ET TECHNOLOGIES EMPLOYEES ET NOUS CONCLUONS A LA SUPERIORITE DE LA TECHNOLOGIE A GRILLE SUSPENDUE. QUANT A L'AUTO-ALIGNEMENT, IL NOUS A PERMIS DE REDUIRE LES RESISTANCES D'ACCES ET D'AMELIORER LES PERFORMANCES STATIQUES DES HFETS A CANAL INP. NOUS MONTRONS EGALEMENT L'EXCELLENTE TENUE EN TENSION DRAIN-SOURCE DES TRANSISTORS. LE QUATRIEME CHAPITRE EST CONSACRE AUX MESURES DE BRUIT A BASSE FREQUENCE SUR CES TRANSISTORS. NOUS MONTRONS L'EFFET DES ETAPES TECHNOLOGIQUES ET DE LA REDUCTIOON DES RESISTANCES D'ACCES SUR LE NIVEAU DE BRUIT DU DISPOSITIF. LES PREMIERS RESULTATS DE LA CARACTERISATION PAR SPECTROSCOPIE DE TRANSITOIRES DES DEFAUTS PROFONDS DANS LES DISPOSITIFS SONT ENSUITE PRESENTES. AFIN DE VALIDER LES PERFORMANCES OBTENUES, NOUS PRESENTONS DANS LE DERNIER CHAPITRE LES SENSIBILITES OBTENUES SUR UN PHOTORECEPTEUR HYBRIDE PIN-HFET INP ET QUELQUES RESULTATS DE CARACTERISATION DE CES TRANSISTORS EN AMPLIFICATION HYPERFREQUENCE

Download or read book Conception fabrication et caract risation de transistors double grille de la fili re Al InAs GaInAs adapt en maille sur substrat InP written by Nicolas Wichmann and published by . This book was released on 2005 with total page 258 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Le développement des applications hyperfréquences futures (Internet haut débit, WI-FI, radioastronomie, métrologie de polluants,...) nécessite la mise au point de circuits intégrés ultra-rapides. L'un des principaux éléments constituant ces circuits est le HEMT. Actuellement, la fréquence maximale d'oscillation fMAX et la fréquence de coupure fT de ce transistor se situent aux alentours de 600 GHz. De telles fréquences sont obtenues en réduisant les longueurs de grille (Lg) en deçà de 50nm. Cependant, on constate une stabilisation des performances fréquentielles avec la réduction de (Lg) compte tenu de l'importance des effets de canal court à ces valeurs de Lg. Il faut donc, dès à présent, proposer des solutions alternatives. Le développement de ces nouveaux composants de la filière HEMT AlInAs/GalnAs adapté en maille sur lnP, basé sur une technologie de report de substrat, constitue l'objet de cette thèse. Ces travaux sont composés de simulations, de fabrications et de caractérisations électriques. Nous avons réalisé des transistors HEMT Double-Grille (DG-HEMT), de longueurs de grille 100nm parfaitement alignées. Sur ces structures, une transconductance extrinsèque record de 2650 mS/mm et un fMAX augmenté de plus de 30% par rapport à un HEMT standard ont été obtenus. Par la suite, une seconde structure basée sur le principe de la modulation de vitesse et désignée sous le nom de transistor VMT a été simulée, réalisée et caractérisée en régime statique. La concordance entre la simulation et les résultats électriques confirme le fonctionnement de ce composant en modulation de vitesse.

Download or read book tude et perspective des transistors h t rostructure AlInAs GaInAs de longueur de grille inf rieure 100 nm et conception de circuits int gr s en bande G written by Thierry Parenty and published by . This book was released on 2003 with total page 278 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: L'amélioration continue des performances fréquentielles des composants électroniques, n'a cessé d'ouvrir de nouvelles perspectives pour de multiples applications. S'appuyant sur l'expérience de l'IEMN, l'objectif de cette thèse a été de développer des circuits intégrés pour les applications au delà de 100GHz (Radiométrie, Radioastronomie, Radar, Télécommunications haut débit, Métrologie de polluants,...). Ce sujet aborde deux thèmes principaux: La réalisation de transistor à effet de champ à hétérojonction HEMT (High Electron Mobility Transistor) de la filière AlInAs/GalnAs sur substrat d'lnP pouvant répondre à nos objectifs, puis la conception et la réalisation de différents circuits intégrés en bande G (140 - 220 GHz). Dans le premier chapitre, nous introduisons le HEMT et dressons un état de l'art de sa technologie et de ses performances fréquentielles. Puis, nous discutons des paramètres à optimiser pour accroître les performances électriques des HEMTs. Enfin nous présentons le procédé de fabrication pour obtenir des HEMTs de longueur de grille de 70 nm et rapportons les résultats de leur caractérisation électrique. Les meilleurs résultats obtenus sont un fT de 270 GHz et un fmax de 470 GHz, ceux-ci se situent au niveau des meilleurs résultats mondiaux en terme de compromis fT-fmax. Dans la seconde partie de ce travail, nous avons conçu des amplificateurs à 140 et 180 GHz, un oscillateur à 140 GHz et des VCOs à 140 GHz. Concernant les amplificateurs, les résultats de simulation laissent espérer un gain par étage de 7 et 3,5 dB à respectivement 140 et 180 GHz. Pour les VCOs, nous avons envisagé diftërentes topologies, cependant la bande d'accord la plus élevée pourrait atteindre 7,5 GHz. A l'heure actuelle, la fabrication des circuits n'a pu être achevée. Cependant nous avons réalisé l'ensemble des dispositifs passifs constituant les circuits, sur ceux-ci des mesures de paramètres S ont été réalisés jusque 220 GHz. Ces mesures ont montré une bonne concordance avec les résultats de simulation, pour les éléments test ainsi que les réseaux d'adaptation. Ces résultats valident les modèles des éléments passifs, et nous permet d'envisager positivement la réalisation d'un circuit complet.

Download or read book R alisation de transistors effet de champ base de GaN pour l amplification de puissance en gamme d ondes millim triques et haute temp rature written by Yannick Guhel and published by . This book was released on 2002 with total page 225 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: La filière GaN connaît actuellement un essor remarquable. En effet, les structures de transistors à effet de champ à base de GaN offrent un énorme potentiel pour des applications de puissance et/ou à haute température. Cette étude avait pour objectif de réaliser des transistors à effet de champ de type HEMT AlGaN/GaN épitaxié sur un substrat de saphir. Nous rapportons dans ce mémoire les différentes étapes technologiques que nous avons développés. Ainsi, nous avons étudié divers procédés technologiques permettant de réaliser des contacts ohmiques, d'isoler les composants les uns des autres (isolation par implantation ionique, par gravure sèche et par gravure humide) et de réaliser des contacts Schottky. Nous avons montré que ces transistors peuvent fonctionner en régime statique, à l'air, jusqu'à 550 °C. Nous avons également mis en évidence que la présence de pièges électriques pouvait être responsable d'une réduction du courant de drain et par conséquent limiter les performances en puissance de ces transistors en hyperfréquence. Afin de limiter ce problème, nous avons étudié l'influence de la passivation précédée de divers traitements de surface. Cela nous a permis de réaliser des transistors HEMT délivrant une densité de puissance de 5W/mm à 4GHz, ce qui se révèle être proche de l'état de l'art mondial (6,6 W/mm à 6 GHz).

Download or read book Conception r alisation et caract risation de transistors effet de champ et d amplificateurs pour des applications de puissance haute lin arite en bandes K et Ka written by Xavier Hue and published by . This book was released on 2000 with total page 222 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: L'essor des applications multimedia, fonctionnant en bandes k et ka necessite le developpement d'amplificateurs de puissance lineaires. La technologie qui a repondu et qui repond encore de nos jours aux applications a tres forte puissance dans le domaine des hyperfrequences est celle des amplificateurs a tubes a ondes progressives. Cependant, les contraintes de linearite imposees par les applications a fort debits nous conduisent vers l'utilisation d'amplificateurs a l'etat solide. Nous developpons dans ce memoire l'etude de transistors a effet de champ (phemt et hfet sur substrat gaas) dedies a la realisation d'amplificateurs de puissance a haute linearite a 19 ghz. L'originalite de ce travail repose sur l'obtention d'un profil de gm aussi plat que possible en fonction de vgs et d'une forte densite de courant de drain afin de pouvoir satisfaire aux deux criteres : puissance et linearite.

Download or read book Transistor effet de champ en GainAs written by Louis Giraudet and published by . This book was released on 1988 with total page 193 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Ce travail s'articule suivant deux axes : - l'étude des propriétés de transport des électrons dans le canal du transistor, pour laquelle a été développée une méthode originale de mesure d'effet hall différentiel sur biseau. cette étude a conduit a l'emploi de couches tampons en algainas pour séparer le canal du substrat inp semi-isolant. - la réalisation de transistors à effet de champ utilisant un contact de grille métal semi-conducteur. l'obtention de très faibles courants de fuite nécessite l'emploi d'une barrière en alinas entre la grille métallique et le canal en gainas. les transistors a transconductance élevée (200 ms/mm pour une longueur de grille de 1 mu m) présentent des fréquences de coupures élevées (206 hz)

Download or read book Conception et r alisation d amplificateurs cryotechniques faible bruit base de transistors effet de champ dans la bande 16 20 GHz written by Frédéric Sejalon and published by . This book was released on 1993 with total page 242 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: LES AMPLIFICATEURS CRYOTECHNIQUES FAIBLE BRUIT A BASE DE TRANSISTORS A HAUTE MOBILITE ELECTRONIQUE TROUVENT DES APPLICATIONS A BORD DE SATELLITES OU SONDES SPATIALES DANS TOUT SYSTEME DONT L'ANTENNE DE RECEPTION NE VOIT PAS LA TERRE: RADIOASTRONOMIE, SCIENCES DE L'UNIVERS, LIAISONS INTER-SATELLITES. CE MEMOIRE COMPREND DONC UNE PREMIERE PARTIE CONSACREE A LA PHYSIQUE ET AU FONCTIONNNEMENT, EN PARTICULIER A BASSE TEMPERATURE, DES TRANSISTORS A HAUTE MOBILITE ELECTRONIQUE (HEMT). DANS LA SECONDE PARTIE, NOUS TRAITONS DE LA CARACTERISATION AUX TEMPERATURES CRYOGENIQUES, TANT EN PARAMETRES S QU'EN PARAMETRES DE BRUIT DES COMPOSANTS HEMT EN PUCE. UNE METHODE ORIGINALE PERMETTANT DE S'AFFRANCHIR DU GRADIENT THERMIQUE QUE SUPPORTENT LES CABLES DE LIAISON, BASEE SUR LA MESURE D'UN TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP NON POLARISE MONTE EN GRILLE COMMUNE, EST PRESENTEE. DES DIFFERENTS RESULTATS EXPERIMENTAUX SONT ENSUITE EXTRAITES LES EVOLUTIONS DES ELEMENTS DU SCHEMA EQUIVALENT ET DES SOURCES DE BRUIT DU TRANSISTOR EN FONCTION DE LA TEMPERATURE ET DE LA POLARISATION. ENFIN, NOUS ABORDONS LA CONCEPTION ET LA REALISATION DE L'AMPLIFICATEUR CRYOTECHNIQUE. APRES AVOIR SELECTIONNE LE COMPOSANT ET LA TECHNOLOGIE LES MIEUX ADAPTES AU FONCTIONNEMENT EN BASSE TEMPERATURE, NOUS DONNONS LES ELEMENTS NECESSAIRES A LA DETERMINATION D'UNE TOPOLOGIE OPTIMALE D'AMPLIFICATEUR FAIBLE BRUIT. LES RESULTATS DE SIMULATION OBTENUS SUR LES DIFFERENTS AMPLIFICATEURS REALISES AU MOYEN DE LOGICIEL D'AIDE AU DEVELOPPEMENT DE CIRCUITS MICRO-ONDES SONT PRESENTES, AVANT D'ANALYSER LES RESULTATS EXPERIMENTAUX RELEVES A LA TEMPERATURE DE L'AZOTE LIQUIDE