Download or read book MODELISATION PHYSIQUE DU VIEILLISSEMENT ET METHODES D EXTRACTION DES PARAMETRES DES TRANSISTORS MOS SUBMICRONIQUES SUR SILICIUM MASSIF ET SOI written by ABDELKADER.. HASSEIN-BEY and published by . This book was released on 1993 with total page 150 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: LA REDUCTION DES DIMENSIONS DES DISPOSITIFS ELEMENTAIRES COMPOSANT LES CIRCUITS INTEGRES, A ETE RENDUE POSSIBLE PAR LES PROGRES DE LA TECHNOLOGIE MICROELECTRONIQUE. L'AUGMENTATION DE LA DENSITE D'INTEGRATION INDUIT UN ACCROISSEMENT DES CHAMPS ELECTRIQUES A L'INTERIEUR DU TRANSISTOR, D'OU UNE INJECTION DE PORTEURS CHAUDS DANS L'OXYDE DE GRILLE ET UNE CREATION DE DEFAUTS. LA COMPREHENSION DES MECANISMES PHYSIQUES DE DEGRADATION EST FONDAMENTALE POUR ABOUTIR A DES SOLUTIONS TECHNOLOGIQUES PERMETTANT D'ATTENUER LE PHENOMENE DE VIEILLISSEMENT. CETTE COMPREHENSION EST LE FRUIT D'ETUDES MENEES SUR LA DEGRADATION DES PERFORMANCES DES DISPOSITIFS DANS LE BUT D'EVALUER L'AMPLEUR ET LA NATURE DES DOMMAGES ENGENDRES. L'OBJECTIF DE NOTRE TRAVAIL N'EST PAS D'EFFECTUER UNE ETUDE SYSTEMATIQUE DU VIEILLISSEMENT, MAIS DE DEVELOPPER ET DE METTRE AU POINT DES MODELES ET DES METHODES SPECIFIQUES DE CARACTERISATION DE TRANSISTORS MOS DEGRADES ULTRA-COURTS. AINSI, NOUS ABORDERONS LA SIMULATION ET LA MODELISATION DES TMOS, EN NOUS CONCENTRANT SUR LE CAS DES CANAUX DE TYPE P. CECI NOUS PERMETTRA DE METTRE AU POINT DES METHODES EFFICACES D'EXTRACTION DE PARAMETRES. LES TECHNOLOGIES SILICIUM SUR ISOLANT OU SOI (SILICON ON INSULATOR) APPARAISSENT COMME UNE ALTERNATIVE INTERESSANTE POUR LA MICROELECTRONIQUE, POUVANT SERIEUSEMENT CONCURRENCER LES TECHNOLOGIES PLUS CLASSIQUES SUR SILICIUM MASSIF. NOUS ABORDONS EN DETAIL LE PROBLEME DU COUPLAGE DES INTERFACES DANS LES TMOS SOI ULTRA-MINCES. ON TRAITE AUSSI DE LA MODELISATION DES EFFETS DES DEGRADATIONS DANS LES TMOS SOI ULTRA-COURTS AFIN DE MIEUX COMPRENDRE LES ASPECTS TYPIQUES ET COMPLEXES LIES AU VIEILLISSEMENT DE CES TRANSISTORS

Download or read book Mod lisation physique des effets du vieillissement et m thodes d extraction des param tres des transistors MOS submicroniques sur silicium massif et S O I written by Abdelkader Hassein-Bey and published by . This book was released on 1993 with total page 164 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book Nouvelles m thodes de caract risation et mod les physiques de vieillissement des transistors MOS submicroniques written by Hisham S. Haddara and published by . This book was released on 1988 with total page 168 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: ON ETUDIE LE TRANSISTOR TMOS A CANAL COURT A L'AIDE D'UN SIMULATEUR BIDIMENSIONNEL EN TENANT COMPTE DES INHOMOGENEITES DE L'INTERFACE. ON PRESENTE ENSUITE UNE NOUVELLE METHODE D'EXTRACTION DES PARAMETRES DES TRANSISTORS DEGRADES. ON PROPOSE UNE CONFIGURATION NOUVELLE DU TRANSISTOR MOS PLUS PERFORMANTE QUE LES STRUCTURES CLASSIQUES. UNE PARTIE EST CONSACREE AUX METHODES DE CARACTERISATION DE L'INTERFACE SI-SIO2. LA DERNIERE PARTIE EST RELATIVE AU VIEILLISSEMENT DES TRANSISTORS MOS ULTRA-COURTS EN COMPARANT LES DONNEES THEORIQUES OBTENUES PAR LES METHODES DEVELOPPEES AU DEBUT ET LES RESULTATS EXPERIMENTAUX MESURES SUR DES DISPOSITIFS.

Download or read book ETUDE EN HAUTE TEMPERATURE DES TRANSISTORS MOS SUBMICRONIQUES FABRIQUES SUR SILICIUM SUR ISOLANT written by GUENTER.. REICHERT and published by . This book was released on 1998 with total page 189 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: L'OBJETCTIF DE CETTE THESE EST LA CARACTERISATION ET LA MODELISATION DES TRANSISTORS MOS-SOI COMPLETEMENT DEPLETES DANS LA GAMME DES HAUTES TEMPERATURES (25C - 300C). LE PREMIER CHAPITRE EST UN BREF RAPPEL DES PRINCIPAUX AVANTAGES DE LA TECHNOLOGIE SOI POUR DES APPLICATIONS HAUTES TEMPERATURES. UNE RELATION ENTRE LES MODELES EMPIRIQUE ET PHYSIQUE DE LA MOBILITE EFFECTIVE DES PORTEURS EST ETABLIE DANS LE DEUXIEME CHAPITRE. CETTE RELATION EXPLIQUE LE ROLE DE TROIS PRINCIPAUX MECANISMES DE COLLISIONS DANS LE MODELE EMPIRIQUE AINSI QUE LA VARIATION DE SES PARAMETRES AVEC LA TEMPERATURE. LE TROISIEME CHAPITRE EST RELATIF A LA VARIATION DE LA TENSION DE SEUIL (V#T#1) ET DU SWING (S) AVEC LA TEMPERATURE. NOUS ETUDIONS LA SENSIBILITE A LA TEMPERATURE DE V#T#1 ET DE S EN FONCTION DE LA LONGUEUR DE CANAL, DE L'EPAISSEUR DU FILM ET DE LA POLARISATION DE LA GRILLE ARRIERE. LA DIFFERENCE ENTRE DES TRANSISTORS A CANAL D'INVERSION ET D'ACCUMULATION EST EGALEMENT DISCUTEE. DANS LE DERNIER CHAPITRE NOUS DEVELOPPONS UNE METHODE POUR L'EXTRACTION DU GAIN DU TRANSISTOR BIPOLAIRE PARASITE. EN NOUS BASANT SUR LES VALEURS EXPERIMENTALES, NOUS PRESENTONS UN MODELE POUR LE GAIN EN FONCTION DE LA TEMPERATURE ET DES POLARISATIONS DE DRAIN ET DE GRILLE. ENSUITE, NOUS PROPOSONS UNE TECHNIQUE POUR LA SEPARATION DES EFFETS DE CANAL COURT, DE SUBSTRAT FLOTTANT ET D'AUTO-ECHAUFFEMENT EN UTILISANT LA VARIATION DE LA CONDUCTANCE DE SORTIE AVEC LA TEMPERATURE. EN CONCLUSION, NOS ETUDES ONT MONTRE QUE LA TECHNOLOGIE SOI COMPLETEMENT DEPLETEE REPOND A TOUTES LES EXIGENCES DES CIRCUITS INTEGRES HAUTES TEMPERATURES. CEPENDANT L'OPTIMISATION DES DISPOSITIFS EST INDISPENSABLE POUR GARANTIR LE FONCTIONNEMENT CORRECT DES CIRCUITS AUX TRES HAUTES TEMPERATURES.

Download or read book CONTRIBUTION A LA MODELISATION ET A L EXTRACTION DES PARAMETRES DE TENSION DE SEUIL DE RESISTANCE SERIE ET DE REDUCTION DE LONGUEUR DANS LES TRANSISTORS MOS SUBMICRONIQUES written by HUGUES.. BRUT and published by . This book was released on 1996 with total page 262 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: LA CONCEPTION DES CIRCUITS INTEGRES A L'AIDE DE SIMULATEURS DE TYPE SPICE, NECESSITE L'ELABORATION DE MODELES PHYSIQUES, PRECIS ET SIMPLES. POUR CELA, UNE BONNE COMPREHENSION DU COMPORTEMENT DES DISPOSITIFS EST INDISPENSABLE. PAR AILLEURS LA REDUCTION CONSTANTE DES DIMENSIONS DE CES DISPOSITIFS ENTRAINE L'APPARITION DE NOUVEAUX PHENOMENES PHYSIQUES QU'IL EST PRIMORDIAL D'ISOLER ET DE CARACTERISER D'UN POINT DE VUE EXPERIMENTAL, AFIN D'EN FAIRE UNE MODELISATION AUSSI PROCHE QUE POSSIBLE DE LA REALITE. C'EST DANS CE CADRE DE RECHERCHE QUE S'INSCRIT CE MEMOIRE. LES DISPOSITIFS ETUDIES ICI SONT LES TRANSISTORS METAL OXYDE SEMICONDUCTEUR, LARGEMENT UTILISES DANS LES CIRCUITS INTEGRES DE TYPE NUMERIQUE. LES MODELES ET LES PROCEDURES D'EXTRACTION DIRECTES DEVELOPPES SONT APPLIQUES SUR UN LARGE PANEL DE TECHNOLOGIES ALLANT DE 1.2 M A 0.1 M. APRES UN BREF RAPPEL DU FONCTIONNEMENT DES TRANSISTORS MOS ET DES PROBLEMES TECHNOLOGIQUES ET DE MODELISATION LIES AUX DIMENSIONS REDUITES DES DISPOSITIFS (CHAPITRE 1), TROIS PARAMETRES FONDAMENTAUX SONT TRAITES: LA TENSION DE SEUIL, LA RESISTANCE SERIE ET LA LONGUEUR DE CANAL EFFECTIVE. DANS LE CHAPITRE 2, LA MODELISATION DE LA TENSION DE SEUIL ET L'EXTRACTION DES PROFILS DE DOPAGE TRANSVERSES SUR LES TRANSISTORS A CANAUX LONGS SONT ABORDES. LE CHAPITRE 3 EST ENSUITE CONSACRE A LA MODELISATION DE LA TENSION DE SEUIL ET A L'EXTRACTION DES PROFILS DE DOPAGE LATERAUX DANS LES TRANSISTORS A CANAUX COURTS. DANS CETTE PARTIE, SONT NOTAMMENT DECORRELES L'EFFET CANAL COURT CLASSIQUE ASSOCIE AU PARTAGE DE CHARGE ET L'EFFET CANAL COURT INVERSE RELATIF A UNE NON HOMOGENEITE DES PROFILS DE DOPAGE LATERAUX. ENFIN, LE CHAPITRE 4 EST DEDIE A L'ETUDE DE LA RESISTANCE SERIE ET DE LA LONGUEUR DE CANAL EFFECTIVE. EN PARTICULIER, L'EVOLUTION DE CES DEUX PARAMETRES AVEC LA POLARISATION DE GRILLE, AINSI QUE SA MODELISATION, SONT TRAITES DANS LE CAS DE TRANSISTORS AYANT DES REGIONS SOURCE ET DRAIN A ZONE FAIBLEMENT DOPEES (LDD)

Download or read book Contribution la mod lisation des transistors MOS silicium sur isolant written by Eric Mazaleyrat and published by . This book was released on 1988 with total page 158 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: LE TRAVAIL EST CONSACRE A L'ETUDE DES DISPOSITIFS MOS AU SUBSTRAT ISOLANT. APRES UNE ANALYSE DES AVANTAGES ET INCONVENIENTS DE CETTE TECHNOLOGIE PAR RAPPORT A CELLES SUR SUBSTRAT MASSIF, L'AUTEUR ETUDIE A L'AIDE DE SIMULATEURS NUMERIQUES, LE COMPORTEMENT INTERNE DE LA STRUCTURE A DESERTION PROFONDE. UNE COMPARAISON ENTRE LE SOI DE TYPE SIMOX ET LE SOS EST DEVELOPPEE. LA COMPREHENSION DES MECANISMES PHYSIQUES ENTRANT EN JEU DANS LES DIODES CONTROLLEES PAR GRILLE, PERMET D'ELABORER UN MODELE PRECIS DE TRANSISTOR MOS

Download or read book CONTRIBUTION A L ANALYSE ET A LA MODELISATION DU VIEILLISSEMENT STATIQUE DE TRANSISTORS NMOS SUBMICRONIQUES written by DAVID.. DORVAL and published by . This book was released on 1995 with total page 152 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: AFIN DE QUALIFIER LA FIABILITE DES TRANSISTORS MOS SUBMICRONIQUES, NOUS AVONS ETUDIE LA TENUE AU VIEILLISSEMENT DE DIFFERENTES SOLUTIONS TECHNOLOGIQUES SENSEES LIMITER LES PHENOMENES DE PORTEURS CHAUDS. L'ANALYSE DES DEGRADATIONS INDUITES PAR LES PORTEURS CHAUDS NOUS A PERMIS DE MODELISER LES DEGRADATIONS DES PRINCIPAUX PARAMETRES ELECTRIQUES BAS-NIVEAU DU TRANSISTOR. CES DEGRADATIONS SONT ESSENTIELLEMENT RELIEES A LA GENERATION D'ETATS D'INTERFACE SOUS LA GRILLE DU TRANSISTOR DONT LA DENSITE PEUT ETRE REVELEE PAR LA TECHNIQUE DE POMPAGE DE CHARGES. LA SENSIBILITE DE CETTE TECHNIQUE ASSOCIEE A LA MODELISATION DES DEGRADATIONS PERMET DE DETERMINER LA DUREE DE VIE DES TRANSISTORS POUR DES POLARISATIONS DE STRESS PROCHES DES TENSIONS NOMINALES DE FONCTIONNEMENT. LA DUREE DE VIE DES DIFFERENTES STRUCTURES POUR LES TENSIONS NOMINALES DE FONCTIONNEMENT EST ALORS DETERMINEE PAR INTERPOLATION ENTRE LES MESURES A FORTES ET FAIBLES TENSIONS. CETTE INTERPOLATION PERMET DE S'AFFRANCHIR PARTIELLEMENT DES INCERTITUDES INHERENTES A L'EXTRAPOLATION QUI EST UTILISEE LORSQUE SEULS LES POINTS DE MESURE A TENSIONS ELEVEES SONT PRIS EN COMPTE

Download or read book Mod lisation physique et compacte de transistors en couches minces base de silicium amorphe ou microcristallin written by Jong Woo Jin and published by . This book was released on 2012 with total page 141 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Dans le but de développer un modèle compact spécifique aux transistors en couches minces (TFT) à base de silicium amorphe ou microcristallin, nous présentons dans ce manuscrit nos études sur l'optimisation des modèles compacts et des méthodes d'extraction des paramètres et, surtout, différents phénomènes présents dans la physique de ces TFTs. Nous proposons une méthode plus robuste d'extraction des paramètres, qui, différemment des méthodes conventionnelles, ne néglige pas la résistance d'accès, diminuant ainsi la subjectivité du procédé de l'extraction. La résistance d'accès dans les différentes structures a été analysée. Pour la structure top-gate coplanar, nous nous sommes focalisés sur des raisons géométriques pour montrer la dépendance de la résistance d'accès en tension de grille. Pour la structure bottom-gate staggered, nous avons introduit l'approche de transport-diffusion au modèle de current crowding, en prouvant la dépendance en tension de grille et en courant en raison de la diffusion des électrons. Le comportement dynamique a été étudié en couplant mesures expérimentales et simulations par éléments finis, en associant les capacités intrinsèques des TFTs avec le temps de retard d'allumage. Nous avons observé l'évolution temporelle du canal lors de sa création ou de sa disparition et nous avons ainsi proposé un modèle qui décrit sa propagation dans un TFT. Nous avons enfin étudié le phénomène de vieillissement des TFTs et nous avons mis en évidence la localisation de la dégradation et de la relaxation dans un TFT sous un stress électrique avec la tension de drain non-nulle.

Download or read book CARACTERISATION ET MODELISATION DU FONCTIONNEMENT DES TRANSISTORS MOS ULTRA SUBMICRONIQUES FABRIQUES SUR FILMS SIMOX TRES MINCES written by OLIVIER.. FAYNOT and published by . This book was released on 1995 with total page 160 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: CE MEMOIRE EST CONSACRE A LA CARACTERISATION ET A LA MODELISATION DES TRANSISTORS MOS FABRIQUES SUR DES FILMS SIMOX TRES MINCES. DANS LE PREMIER CHAPITRE, OUTRE L'ORIENTATION DE LA MICROELECTRONIQUE, NOUS DETAILLONS L'INTERET POTENTIEL QUE PEUT SUSCITER LA TECHNOLOGIE SOI POUR LES APPLICATIONS BASSE-TENSION. ENSUITE, NOUS ANALYSONS LES PHENOMENES DE COUPLAGE D'INTERFACES APPARAISSANT DANS DEUX TYPES DE CONDUCTION DE TRANSISTORS TOTALEMENT DESERTES: LA CONDUCTION PAR CANAL D'INVERSION ET LA CONDUCTION PAR CANAL D'ACCUMULATION. PUIS, LES EFFETS DE CANAUX COURTS SONT ETUDIES DANS L'OBJECTIF D'OPTIMISER L'ARCHITECTURE DES TRANSISTORS SOI ULTRA-SUBMICRONIQUES. LES PHENOMENES LIES A L'IONISATION PAR IMPACT SONT ENSUITE PRESENTES POUR LES DEUX TYPES DE CONDUCTION. UN PROCEDE SIMPLE DE FABRICATION EST ALORS DECRIT ET LES RESULTATS EXPERIMENTAUX DES TRANSISTORS ET DES CIRCUITS METTENT EN AVANT LES AVANTAGES DU SOI POUR LES APPLICATIONS BASSE-TENSION. LE DERNIER CHAPITRE EST DEDIE A LA CARACTERISATION DES PHENOMENES DE PORTEURS CHAUDS DES TRANSISTORS SOI COMPLETEMENT DESERTES

Download or read book Etude du vieillissement de transistors MOS submicroniques soumis une contrainte lectrique written by Béatrice Cabon and published by . This book was released on 1986 with total page 110 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: LA DEGRADATION DES CARACTERISTIQUES ELECTRIQUES STATIQUES DE TRANSISTOR MOS SBMICRONIQUES EST ETUDIEE APRES UNE CONTRAINTE ELECTRIQUE DE LONGUE DUREE DU TRANSISTOR POLARISE EN SATURATION. DE NOUVELLES METHODES DE CARACTERISATION DU TRANSISTOR SONT PROPOSEES. UN MODELE ANALYTIQUE UNIDIMENSIONNEL DE DEGRADATION DES PRINCIPAUX PARAMETRES EST PRESENTE, ET PERMET DE CORRELER CES DIFFERENTS PARAMETRES DE DEGRADATION

Download or read book tude des propri t s physiques et electriques de transistors mos fortement submicroniques written by Bertrand Szelag and published by . This book was released on 1999 with total page 161 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: LA REDUCTION DES DIMENSIONS DES TRANSISTORS MOS FAIT APPARAITRE DES EFFETS NEFASTES AU BON FONCTIONNEMENT DES COMPOSANTS ELECTRONIQUES. L'OBJECTIF DE CE TRAVAIL DE THESE EST D'ETUDIER LES PROPRIETES PHYSIQUES ET ELECTRIQUES DES MOSFETS FORTEMENT SUBMICRONIQUES. LES LONGUEURS DE GRILLE MINIMUM UTILISEES AU COURS DE CETTE ETUDE SONT DE 75NM. DANS LE PREMIER CHAPITRE, NOUS RAPPELONS LES PRINCIPES DE FONCTIONNEMENT DES TRANSISTORS MOS EN INTRODUISANT LES EFFETS LIES A LA REDUCTION DES DIMENSIONS. LE SECOND CHAPITRE EST ENTIEREMENT DEDIE AUX EFFETS DE CANAUX COURTS. LA TENSION DE SEUIL EST ETUDIEE EN FONCTION DE NOMBREUX PARAMETRES. NOUS PRESENTONS UNE ANALYSE FINE DE L'EFFET DE CANAL COURT INVERSE A PARTIR DE MESURES EFFECTUEES A BASSE TEMPERATURE ET EN DETERMINONS L'ORIGINE. ENFIN, NOUS PRESENTONS UN PHENOMENE ORIGINAL D'AUGMENTATION DE LA TRANSCONDUCTANCE AVEC LA POLARISATION DE SUBSTRAT. LE TROISIEME CHAPITRE TRAITE DES EFFETS DE PORTEURS CHAUDS. NOUS ANALYSONS EN DETAIL LES COURANTS DE GRILLE ET DE SUBSTRAT ET PRESENTONS DES RESULTATS RELATIFS AU VIEILLISSEMENT DES COMPOSANTS. ENFIN, LE PHENOMENE D'EMISSION DE PHOTONS EST ANALYSE. LE QUATRIEME CHAPITRE PRESENTE UNE ETUDE COMPARATIVE DES METHODES D'EXTRACTION DE LA LONGUEUR EFFECTIVE DE CANAL ET DES RESISTANCES SERIE. NOUS PROPOSONS CERTAINES AMELIORATIONS PERMETTANT D'UTILISER CES METHODES POUR LES COMPOSANTS FORTEMENT SUBMICRONIQUES. LE CINQUIEME CHAPITRE EST UN TRAVAIL DE CARACTERISATION ELECTRIQUE DE TRANSISTORS AVANCES REALISES AVEC DIFFERENTES ARCHITECTURES. NOUS COMPARONS UN DOPAGE CONVENTIONNEL OBTENU PAR IMPLANTATION DE BORE A UN DOPAGE RETROGRADE REALISE PAR IMPLANTATION D'INDIUM.

Download or read book MODELISATION DU VIEILLISSEMENT DU TRANSISTOR MOS written by ISABELLE.. LIMBOURG and published by . This book was released on 1996 with total page 234 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: L'ANALYSE DU VIEILLISSEMENT DES TRANSISTORS NMOS DU A UNE INJECTION DE PORTEURS CHAUDS EST UN PROBLEME IMPORTANT, CAR ON SAIT MAINTENANT QUE LES DEFAUTS ELECTRIQUEMENT ACTIFS CREES PAR CE TYPE DE DEGRADATION SONT LA CAUSE D'UNE DIMINUTION DE LA FIABILITE DES DISPOSITIFS VLSI. DANS CE CONTEXTE, L'OBJECTIF DE CE TRAVAIL DE THESE EST DE MODELISER ET DE CARACTERISER LES EFFETS DU VIEILLISSEMENT PAR INJECTION DE PORTEURS CHAUDS SUR LE COMPORTEMENT ELECTRIQUE DU TRANSISTOR NMOS. POUR CELA, ON A DEVELOPPE UN MODELE ANALYTIQUE UNIDIMENSIONNEL DANS LEQUEL LE CANAL EST DIVISE EN CELLULES ET QUI PEUT PRENDRE EN COMPTE UNE DISTRIBUTION DE DEFAUTS LE LONG DE CE CANAL. LES ECHANTILLONS UTILISES ONT ETE DEGRADES PAR PHOTOINJECTION HOMOGENE D'ELECTRONS DANS L'OXYDE DE GRILLE ; LA DENSITE D'ETATS D'INTERFACE ET LA DENSITE DE CHARGES PIEGEES DANS L'OXYDE ONT ETE EXTRAITES RESPECTIVEMENT PAR LA METHODE DE POMPAGE DE CHARGES ET PAR LA METHODE DE MC WHORTER ET WINOKUR. CE MODELE A ENSUITE ETE INTRODUIT DANS LE SIMULATEUR DE CIRCUITS SABER, LA CARACTERISATION ET L'OPTIMISATION DE TOUS LES PARAMETRES DU MODELE ONT ETE REALISES A L'AIDE DU LOGICIEL IC-CAP. CE MODELE A ETE VALIDE EN REGIME STATIQUE POUR UNE DEGRADATION HOMOGENE, POUR DEUX TYPES DE TRANSISTORS NMOS, DE GEOMETRIES DIFFERENTES ET DE COMPORTEMENT INEGAL VIS-A-VIS DE LA DEGRADATION

Download or read book Contribution la mod lisation des transistors organiques written by Amina Belkhir and published by . This book was released on 2009 with total page 168 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Ce travail porte sur l’étude de la modélisation du transistor organique ainsi que son implémentation numérique. L’objectif est la prise en compte des spécificités des matériaux organiques dans le calcul des caractéristiques courant-tension du transistor, de manière à permettre une analyse physique du comportement des transistors, et par suite de pouvoir agir sur les paramètres technologiques de fabrication, et améliorer les performances des composants et des circuits. Dans un premier temps, un modèle semi-analytique 1D a été développé, sur la base du modèle du transistor MOS silicium en prenant en compte un certain nombre d’effets parasites (résistances ohmiques des contacts, injection non linéaire au contact source). L’impact des phénomènes d’injection sur l’extraction des paramètres essentiels du transistor (mobilité effective et tension de seuil) ont pu être clairement soulignés. De plus, l’existence de champs électriques très élevés au contact injectant a été mise en évidence. Ensuite, il est apparu utile de développer un modèle numérique du calcul du courant drain pour prendre en compte d’avantage de spécificités des matériaux organiques (densités d’états, autres modèles d’injection, profils de mobilités, etc.). Ce modèle est basé sur le calcul distribué du potentiel dans le canal. Dans un premier temps, la résolution numérique de l’équation de Poisson a été implémentée pour calculer la charge accumulée. Cela a également permis de souligner clairement les différences entre la tension de seuil effective UT-eff et la tension UONSET. Ce travail préliminaire pose les bases nécessaires à la poursuite de l’analyse physique de la caractéristique courant-tension

Download or read book Contribution l tude des performances et de la fiabilit des architectures MOS fabriqu es en technologie silicium massif silicium sur isolant et silicium germanium written by Olivier Potavin and published by . This book was released on 2003 with total page 185 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: L'apparition de substrat alternatifs SOI ou SiGe, en plus de la technologie " standard " intégrée sur silicium massif, introduit de nouveaux problèmes de caractérisation électrique ainsi que de nouveaux comportement de dégradation sous forte contrainte électrique statique. L'objectif de ce travail de recherche a été d'explorer les méthodes caractérisation électrique des dispositifs dans le cadre d'expériences de vieillissement. Apres un rappel des différentes méthodes de caractérisation électrique et des lois de vieillissement rencontrées, cette méthodologie sera appliquée à l'étude des performances et de la fiabilité des architectures SOI. La simulation électrique bidimensionnelle est largement utilisée avec une approche classique ou quantique permettant d'extraire les profils des paramètres relatifs à la dégradation : densité volumique de porteurs, champs électriques... Cet outil permet d'accéder de manière décorrélée à la localisation des flux de porteurs dans le cadre de dispositif à base d'alliage ou multi-couches. Le vieillissement des architectures SiGe est étudié suivant une approche classique des expérience de vieillissement, et caractérisé avec une nouvelle méthode d'effet Hall permettant d'accéder à la densité de porteurs de chacune des couches, méthode QMSA. L'ensemble de ces résultats sont comparés aux performances d'une architecture silicium massif utilisant un profil SSR.

Download or read book Mod lisation de transistors M O S substrat non uniform ment dop pour des applications analogiques written by Olivier Declerck and published by . This book was released on 1991 with total page 216 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Un outil d'optimisation de modèles et d'extraction de paramètres de transistors MOS a été développé spécifiquement pour des applications analogiques. Il est articulé autour d'un algorithme de minimisation de fonctions non linéaires par la méthode des moindres carrés. Cet outil a facilité le développement et la validation d'un modèle de transistors MOS dont le substrat n'est pas uniformément dopé. L'importance d'une très exacte prise en compte de l'évolution de la tension de seuil en fonction de la polarisation du substrat est mise en évidence. Une méthode de calcul est proposée qui permet sa détermination précise, à partir de la seule donnée du profil de dopage. Le calcul du courant drain statique est basé sur un ajustement précis de la tension de seuil à l'aide d'une fonction empirique universelle. Il est continu dans tous les régimes de fonctionnement et ne nécessite qu'un nombre très restreint de paramètres. Pour la simulation petit signal, l'utilisation d'un modèle approché permet au modèle de garder toute sa simplicité; il utilise une approche quasi statique

Download or read book Etude du fonctionnement et du vieillissement de transistors MOS submicroniques basse temp rature written by Chiên Nguyen-Duc and published by . This book was released on 1988 with total page 162 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: POUR CETTE ETUDE, EN PREMIERE PARTIE, DEUX MODELES SONT PROPOSES POUR PRENDRE EN COMPTE LES ASPECTS PARTICULIERS AUX DISPOSITIFS A CANAL TRES COURT (SUBMICRON). ON PROPOSE AUSSI UNE METHODE POUR DETERMINER LA LONGUEUR ELECTRIQUE DES TMOS. LA SECONDE PARTIE EST CONSACREE A L'ETUDE DES MECANISMES PHYSIQUES DE DEGRADATION PAR LES PORTEURS CHAUDS ET DU VIEILLISSEMENT A 77K DE TRANSISTOR MOS FABRIQUES PAR DIFFERENTES TECHNOLOGIES. ON MONTRE QUE LE PIEGEAGE DES ELECTRONS ET LA GENERATION DES ETATS D'INTERFACE VARIENT SELON LES CONDITIONS DE CONTRAINTE, LA TEMPERATURE ET LA LONGUEUR DES TRANSISTORS

Download or read book MODELISATION ANALYTIQUE GLOBALE ET CELLULAIRE DU TRANSISTOR BIPOLAIRE ET DES STRUCTURES MOS METAL OXYDE SEMICONDUCTEUR ET SOI SILICIUM SUR ISOLANT written by MOHAMED ALI.. NEHME and published by . This book was released on 1992 with total page 271 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: CETTE THESE EST CONSACREE A LA MODELISATION ET LA CARACTERISATION DE TROIS COMPOSANTS: LE TRANSISTOR BIPOLAIRE, LE MOSFET ET LE SOIFET. AFIN DE SATISFAIRE LE COMPROMIS PRECISION-RAPIDITE NOUS AVONS CHOISI UN MODELE A CHARGE DISTRIBUEE, QUI CONSISTE A DIVISER LA REGION ACTIVE DU COMPOSANT EN UN NOMBRE SUFFISANT DE CELLULES, ET UN MODELE GLOBAL QUI CONSIDERE LA REGION ACTIVE EN TOTALITE. LE COMPORTEMENT DU COMPOSANT DE CELLULE EN CELLULE EST DECRIT PAR LE MODELE GLOBAL ADAPTE A CHAQUE CELLULE. L'OBJECTIF DU MODELE GLOBAL POUR LE TRANSISTOR BIPOLAIRE EST DE DETERMINER LE CHAMP ELECTRIQUE E AINSI QUE LES CHARGES DE PORTEURS DANS LA BASE. LE CHAMP ELECTRIQUE E(X) EST OBTENU PAR INTEGRATION DE L'EQUATION DE POISSON. SI E EST VARIABLE, IL FAUT ECRIRE UNE EQUATION DIFFERENTIELLE INDEPENDANTE POUR LES MINORITAIRES (OU LES MAJORITAIRES) AVEC POUR SECOND MEMBRE UNE FONCTION DE E ET DE SES DERIVEES. SI E EST CONSTANT, ON PEUT DETERMINER LES CONCENTRATIONS DES MINORITAIRES ET DES MAJORITAIRES, EN RESOLVANT, SEPAREMENT, LEURS EQUATIONS DE CONTINUITE. LE MODELE CELLULAIRE TIENT COMPTE D'UN CHAMP VARIABLE ET D'UN DOPAGE CONSTANT OU VARIABLE DANS LA BASE. ON EN DEDUIT TOUTES LES GRANDEURS DESIREES. LE MOS CONSIDERE ICI EST DE LONGUEUR SUBMICRONIQUE. LE MODELE DONNE LA CHARGE D'ELECTRONS VEHICULEE DANS LE CANAL EN FONCTION DES TENSIONS APPLIQUEES AUX ELECTRODES, TIENT COMPTE DE LA LONGUEUR EFFECTIVE DU CANAL, DE LA REGION SATUREE ET DU CHAMP LONGITUDINAL DANS CETTE REGION, DE LA MOBILITE VARIABLE, DES REGIMES DE FAIBLES ET DE FORTE INVERSION, DU FONCTIONNEMENT EN STATIQUE ET EN DYNAMIQUE. LE SOI, A COUCHE MINCE SUR ISOLANT, EST CONSTITUEE DE DEUX MOS EN PARALLELE COMMANDE CHACUN PAR UNE GRILLE. NOUS Y AVONS TRANSPOSE LE MODELE DU MOS GLOBAL OU CELLULAIRE STATIQUE OU DYNAMIQUE. TOUT EN CONSIDERANT, SELON LES POLARISATIONS, L'ETAT DE CHACUN DES MOS NOUS TENONS COMPTE DES EFFETS SPECIFIQUES DU SOI COMME, L'EFFET COUDE OU LE COUPLAGE DE CHARGE ENTRE LES DEUX GRILLES. LES VALIDATIONS EN STATIQUE ET POUR LES MODELES GLOBAUX DU BIPOLAIRE ET DU MOS SONT FAITES