Download or read book Etude et optimisation d une source laser plasma pour la lithographie dans l extr me ultraviolet written by Marc Segers and published by . This book was released on 2006 with total page pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: La lithographie dans l'extrême ultraviolet (EUVL) est actuellement considérée comme la technologie de choix pour permettre la réalisation de motifs de 32 nanomètres à partir de 2009. L'enjeu pour l'industrie de la micro électronique est de taille. En France, le projet PREUVE a démarré en 1999 afin d'étudier les différents éléments nécessaires pour construire un banc d'essai pour la lithographie EUV (BEL). Le BEL est aujourd'hui la première machine de EUVL expérimentale en Europe. II est installé au CEA-LETI à Grenoble pour effectuer des tests d'insolation et d'optimisation de résines. Le travail de la présente thèse s'inscrit pleinement dans les activités de PREUVE, notamment dans les efforts du CEA-DSM/DRECAM/SPAM consacrés à la réalisation d'une source EUV puissante et propre en termes de débris, afin de préserver le plus longtemps possible l'optique de collection. Nous avons privilégié une source: "plasma produit par laser ". Après une première année de conception, également consacrée à des études de validation et à des simulations plasma, nous avons réalisé en 2001 un prototype appelé EUV Lithography Source Apparatus (ELSA). Puis, nous avons effectué plusieurs séries d'expériences pour l'optimisation de la source ELSA. Nous avons en particulier optimisé (1) le fonctionnement de l'injecteur cryogénique d'une cible dense et directive de micro-gouttelettes de xénon et (2) le couplage du laser sur la cible. Pour cela, nous avons étudié l'influence de différents profils temporels en réalisant un dispositif optique original. Ces mesures ont été comparées à des simulations plasma, réalisées au cours de ce travail de thèse. Nous avons développé et mis en place un ensemble de diagnostics pour la caractérisation complète d'ELSA. L'ensemble des travaux de cette thèse a contribué à la réalisation d'une source à 13,5 nm fonctionnant avec un taux de répétition de 50Hz et délivrant une puissance EUV de 250 mW (2% BW et 2π). Ce travail a permis d'ouvrir la voie vers un projet industriel: "EXULITE ", en collaboration avec Alcatel, Thalès Laser et le CEA-DEN/DPC/SCP, qui fait partie du projet européen MEDEA+ T405.

Download or read book Opening the Extreme Ultraviolet Lithography Source Bottleneck written by John White (Ph.D.) and published by . This book was released on 2006 with total page 251 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book Laser plasma Sources for Extreme ultraviolet Lithography written by Björn A. M. Hansson and published by . This book was released on 2003 with total page 58 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book Extreme Ultraviolet Lithography with Laser Plasma Sources written by and published by . This book was released on 1995 with total page pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book Laser Plasma Radiation Studies for Droplet Sources in the Extreme Ultraviolet written by Reuvani D. Kamtaprasad and published by . This book was released on 2010 with total page 73 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: The advancement of laboratory based Extreme Ultraviolet (EUV) radiation has escalated with the desire to use EUV as a source for semiconductor device printing. Laser plasmas based on a mass-limited target concept, developed within the Laser Plasma Laboratory demonstrate a much needed versatility for satisfying rigorous source requirements. This concept produces minimal debris concerns and allows for the attainment of high repetition rates as well as the accommodation of various laser and target configurations. This work demonstrates the generation of EUV radiation by creating laser plasmas from mass-limited targets with indium, tin, and antimony doped droplets. Spectral emission from the laser plasmas is quantified using a flat-field spectrometer. COWAN code oscillator strength predications for each of the dopants were convolved with narrow Gaussian functions creating synthetic spectra for the EUV region between 10 nm - 20 nm. A preliminary comparison was made between the theoretical spectra and experimental results. From this comparison, ion stage transitions for each of the hot dense plasmas generated were assessed.

Download or read book Target Fabrication for Extreme Ultraviolet Laser Produced Plasma Sources written by Evgenia McLoughlin and published by . This book was released on 2009 with total page 58 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book A Plasma Ultraviolet Source for Short Wavelength Lasers written by Kwang S. Han and published by . This book was released on 1986 with total page 28 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: A high power blue-green laser was pumped with an array of the dense plasma focus. As the result of optimizing the operating conditions of the dense plasma focus and laser system, the maximum untuned laser output exceeded 2.lmJ corresponding to the energy density 3J/cu cm which is much higher than the typical flashlamp dye laser. The optimum operating conditions of the DPF device and laser system were argon pressure 0.3 torr, dye concentration 6 x 0.0001 mol/liter and 10% output transmission mirror. In order to enhance the efficiency of a blue-green laser through spectrum conversion of the pumping light, a converter dye, BBQ, was mixed in the laser dye solutions. The laser was pumped with the hypocyloidal-pinch plasma radiation source. The maximum increase of laser output at the dye mixture of LD490+BBQ or coumarin 503+bbq was about 80%. The enhancement is mainly due to the abundance of near uv in the pumping source, the fairly good match of the fluorescence band of converter dye with the absorption band of the laser dye, and a small overlap of fluorescence band of laser dyes with triplet-triplet adsorption band of converter dye. (Author).

Download or read book ETUDE ET OPTIMISATION DE L EMISSION X D UN PLASMA CREE PAR UNE IMPULSION LASER ULTRA COURTE written by Séréna Bastiani-Ceccotti and published by . This book was released on 1998 with total page 260 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: DANS CETTE THESE NOUS AVONS ETUDIE EN DETAIL LES MECANISMES D'ABSORPTION DE L'ENERGIE LASER LORS DE L'INTERACTION D'UN LASER SUB-PICOSECONDE AVEC UNE CIBLE SOLIDE. LA SPECTROSCOPIE X DES RAIES DE RESONANCE ET DE LEURS SATELLITES NOUS A PERMIS DE CONNAITRE LES PARAMETRES DU PLASMA (DENSITE ET TEMPERATURE). EN VUE DE LA REALISATION D'UNE SOURCE X D'UNE BRILLANCE LA PLUS ELEVEE ET D'UNE DUREE LA PLUS COURTE POSSIBLE, DEUX TECHNIQUES D'OPTIMISATION DE L'ABSORPTION ONT ETE ETUDIEES. D'UNE PART NOUS AVONS UTILISE DES CIBLES A SURFACE MODULEE PERIODIQUEMENT POUR AUGMENTER, A TRAVERS LE COUPLAGE AVEC LES MODES DE SURFACE, L'ABSORPTION DE L'ENERGIE LASER A LA DENSITE DU SOLIDE. D'AUTRE PART, NOUS AVONS ETUDIE L'INTERACTION DU LASER AVEC UN PLASMA PRE-FORME, POUR OPTIMISER L'ABSORPTION DE L'ENERGIE A LA DENSITE CRITIQUE EN PROFITANT DE LA CREATION D'UN PROFIL DE DENSITE DETENDU. DANS CE DERNIER CAS, NOUS AVONS AUSSI ANALYSE LES CARACTERISTIQUES DES ELECTRONS SUPRA-THERMIQUES CREES PAR LES MECANISMES NON-LINEAIRES PRESENTS PENDANT L'INTERACTION. NOUS AVONS MIS EN EVIDENCE LA TRES FORTE INFLUENCE DE LA VALEUR DE LA LONGUEUR DU GRADIENT DE DENSITE SUR LES CARACTERISTIQUES DE CES ELECTRONS ET SUR L'EMISSION X, ET NOUS AVONS DETERMINE LA VALEUR DE LA LONGUEUR DE GRADIENT QUI PERMET D'OPTIMISER L'ABSORPTION ET L'EMISSION X.

Download or read book LASERS COLLISIONNELS X UV A IONS NEONOIDES ETUDE DU MILIEU AMPLIFICATEUR ET OPTIMISATION DU POMPAGE APPLICATION written by STEPHANE.. SEBBAN and published by . This book was released on 1997 with total page 224 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: CETTE THESE PRESENTE LES RESULTATS D'ETUDES SUR LES LASERS X-UV COLLISIONNELS A IONS NEONOIDES EMETTANT DANS LA REGION DE 20 NM. NOUS AVONS ETUDIE L'EFFET DE PRE-IMPULSIONS D'INTENSITE VARIABLE, SUR LES CARACTERISTIQUES DU MILIEU AMPLIFICATEUR ET DE L'EMISSION DE LA RAIE 3P-3S (J=0-1) DES IONS NEONOIDES. LE MILIEU AMPLIFICATEUR EST CONSTITUE D'UNE COLONNE DE PLASMA CREEE PAR L'IMPACT D'UNE IMPULSION INFRAROUGE, DE 600 PS DE DUREE ET D'ENERGIE DE 430 J, SUR UNE CIBLE SOLIDE. LES RESULTATS MONTRENT QUE LA PRE-IMPULSION MINIMISE LA REFRACTION DU FAISCEAU AMPLIFIE DANS LA ZONE DE PLUS FORT GAIN ET ELARGIE LATERALEMENT LA ZONE AMPLIFICATRICE. L'INTENSITE DE LA RAIE J=0-1 EST APPARUE TRES SENSIBLE A L'INTENSITE DE LA PRE-IMPULSION ET A L'ECART TEMPOREL QUI CSEPARE L'IMPULSION DE POMPE ET LA PRE-IMPULSION ET MONTRE UN COMPORTEMENT DIFFERENTS SUR TROIS ELEMENTS DE NUMEROS ATOMIQUES VOISINS LE NICKEL (Z=28), LE CUIVRE (Z=29) ET LE ZINC (Z=30). L'ETUDE DES PRE-PLASMAS DE CUIVRE ET DE ZINC CREES PAR LA PRE-IMPULSION MET EN AVANT LE ROLE IMPORTANT DES PROPRIETES DE LA CIBLE A L'ETAT SOLIDE DANS LA DYNAMIQUE DE L'INTERACTION. UNE AUTRE PARTIE DE LA THESE EST CONSACREE A L'AMELIORATION DU POMPAGE COLLISIONNEL GRACE A L'UTILISATION D'UNE SERIE D'IMPULSIONS DE POMPE DE PLUS COURTE DUREE. DES COEFFICIENTS DE GAIN TRES ELEVES DE 15 CM#-#1 ONT ETE MESURES POUR LA TRANSITION J=0-1 DU FER NEONOIDE A LA LONGUEUR D'ONDE DE 25.5 NM. LA SATURATION EST ATTEINTE DANS UNE COLONNE DE PLASMA DE 2 CM DE LONG, CREEE PAR UNE IMPULSION DE 130 PS DUREE ET DE 60 J D'ENERGIE. DE PLUS, NOUS AVONS PU REGENERER LE GAIN (G=12 CM#-#1), A L'AIDE D'UNE SECONDE IMPULSION DE POMPE. FINALEMENT, NOUS AVONS DEVELOPPE UNE APPLICATION D'UN LASER A 21.2 NM, CONSISTANT EN L'ETUDE DE LA LUMINESCENCE INDUITE PAR CETTE SOURCE DANS UN CRISTAL DE CSI. LES RESULTATS MONTRENT UNE CHUTE DU RENDEMENT DE LUMINESCENCE RAPIDE POUR LES PLUS HAUT FLUX EXCITATEURS ET L'APPARITION DE BANDES D'EMISSION NON-OBSERVEES AVEC LES AUTRES SOURCES.

Download or read book Studies of Extreme Ultraviolet Emission from Laser Produced Plasmas as Sources for Next Generation Lithography written by and published by . This book was released on 2013 with total page 193 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book Etude du d gazage des r sines pour les lithographies lectronique et extr me ultraviolet written by Armel-Petit Mebiene-Engohang and published by . This book was released on 2015 with total page 0 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: La lithographie électronique multifaisceaux (ou multi e-beam) en cours de développement est pressentie comme une alternative à la photolithographie 193 nm à immersion (193i nm) pour la production des circuits intégrés des noeuds technologiques avancés (14 nm et au-delà). Elle se présente également comme un concurrent potentiel à la photolithographie sous rayonnement EUV (13,5 nm) qui, elle aussi, est en cours de développement. Cependant, le développement de cette technologie doit faire face à plusieurs obstacles. Parmi eux, on a la contamination des optiques électroniques induite par le redépôt des molécules dégazées de la résine au cours de l"exposition. Ces dépôts conduisent à la croissance d"une couche carbonée en surface et à l"intérieur des trous de ces optiques. Cette couche de contamination a tendance à diminuer la transmission des optiques et, par conséquent, diminuer les performances lithographiques de l"outil (débit, uniformité des CD, rugosité, etc.). Il est donc indispensable de comprendre les mécanismes qui gouvernent le dégazage et la croissance de la couche de contamination afin d"être en mesure de prédire son rôle sur les dérives des procédés et de l"équipement. Tel a été l"axe conducteur de ces travaux de thèse. Dans un premier temps, nous avons réalisé l"état de l"art des travaux déjà effectués dans le cas de la technique de lithographie EUV. Ensuite, nous avons conçu et fabriqué un banc de tests et développé, en parallèle, les méthodologies permettant de réaliser les études de dégazage des résines et de contamination induite sur des dispositifs simulateurs d"optiques électroniques, appelés « mimics ». Puis, dans les conditions opératoires similaires à la plateforme Matrix développée par MAPPER Lithography, nous avons évalué le dégazage des résines de différentes formulations et mesuré la contamination induite par chacune de ces formulations sur les mimics à l"aide du banc de tests développé. Enfin, nous avons proposé un modèle analytique permettant de prédire la croissance du film de contamination à l"intérieur des trous du mimic en fonction des paramètres d"exposition.

Download or read book Etude de la modification de la source dans l utilisation de la m thode de co optimisation source masque en lithographie optique written by Clovis Alleaume and published by . This book was released on 2014 with total page 0 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Réalisée entre décembre 2009 et décembre 2012 au sein de STMicroelectronics Crolles dans l'équipe RET (résolution enhancement techniques), et en partenariat avec le laboratoire Hubert Curien Saint Etienne de l'université de Lyon, cette thèse s'intitule "Impact de la modification de la source dans l'utilisation de la méthode de cooptimisation masque source en lithographie optique, et application au nœud technologique 20 nm". Durant cette étude, nous avons pu étudier la technique d'optimisation de la source optique en lithographie, appelée généralement SMO afin de l'appliquer aux problématiques de l'industrie. Une première partie du manuscrit traitant de la lithographie optique permettra de mieux comprendre les problématiques liées à cette étude, en présentant les techniques utilisées. En effet, afin de permettre à la lithographie optique de continuer la miniaturisation des composants de microélectronique, il est nécessaire d'optimiser au maximum de nombreux éléments de la lithographie. La forme de la source optique utilisée n'échappe pas à cette règle et l'utilisation de sources étendues, hors axe et plus ou moins complexe permet aujourd'hui la production des technologies de pointes. Une seconde partie s'attardera plus sur l'optimisation de la source à proprement parler. Dans un premier temps, la théorie de la diffraction sera étudiée afin de permettre une meilleure compréhension du problème. Des simulations et des mesures SEM ou microscope électronique à balayage seront présentées pour montrer l'efficacité de la méthode SMO, de l'anglais "Source Mask Optimization". Cette étude donnant lieu au développement de nouvelles méthodes rapides et innovantes d'optimisation de la source, l'étude prendra soin de présenter des résultats obtenus dans le cadre de cette thèse. Ainsi, la méthode de SMO interne basée sur le phénomène de diffraction et créée durant cette thèse sera présentée dans cette étude et les résultats en découlant seront étudiés. L'application de l'optimisation de la source à des problématiques industrielles sera également présentée à travers différentes applications des solutions proposées. Finalement, un legs de connaissance nécessaire sera effectué par la présentation des différents outils développés durant cette thèse. Une troisième partie concernera l'étude de l'outil Flexray permettant la génération des sources optimisées. La thèse ayant donné lieu à une nouvelle technique de décomposition de la source en polynôme de Zernike, cette techniques sera présentée ici. Elle sera ensuite utilisée pour modéliser la dégradation d'une source, ainsi que pour corréler la différence de source avec la divergence du modèle empirique de simulation. L'étude des sources a été mise en place suivant un aspect industrielle, afin de contrôler l'évolution du scanner de façon rapide. De plus, des simulations peuvent être utilisées pour compléter cette étude. Finalement, une dernière partie traitera de la cooptimisation entre la source et différents éléments tels que le masque et la forme final du motif souhaité. En effet, si la forme initiale du motif souhaité joue un rôle important dans la définition de la source, il est possible de modifier cette dernière, ainsi que la forme du masque en lui appliquant un OPC afin d'obtenir de meilleurs résultats. Ces modifications seront étudiées durant le dernier chapitre.

Download or read book Development of a Gas based Spectral Filter for Carbon Dioxide Laser Produced Plasma Extreme Ultraviolet Sources written by Chimaobi Mbanaso and published by . This book was released on 2012 with total page 176 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book Ion Spectroscopy of Laser Produced Plasmas with Potential for Extreme Ultraviolet Sources written by Aodh O'Connor and published by . This book was released on 2009 with total page 212 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book D veloppement caract risation et optimisation d une source plasma pour le traitement de liquides written by Laurent Invernizzi and published by . This book was released on 2019 with total page 224 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Depuis quelques dizaines d'années, un intérêt grandissant dans la caractérisation et l'optimisation des jets de plasma à pression atmosphérique a vu le jour grâce à la variété d'applications possibles. L'une d'entre elle concerne la décontamination de liquides contenant des polluants. En effet, le plasma est capable de créer des agents oxydants tels que des espèces réactives de l'oxygène et de l'azote (RONS), des champs électriques, des radiations UV/VUV et des espèces chargées. En particulier, la variété et le nombre de RONS qui sont créés et déposés en phase liquide sont deux paramètres clés dont la compréhension et l'optimisation sont fondamentales pour pouvoir développer une source plasma efficace en terme de décontamination de liquides. La création de RONS est possible par une cascade de transferts d'énergie entre les espèces issues du plasma, l'air qui les entourent et la cible liquide placée en contact avec le jet de plasma. Il est donc nécessaire d'étudier les espèces qui donnent naissance aux RONS, à savoir les atomes d'hélium métastable He(23S). Ces espèces ont la particularité de posséder une énergie relativement conséquente (19.8 eV), en plus de pouvoir la conserver pendant plusieurs dizaines de nanosecondes dans le cas où un mélange He + 0.2% O2 est utilisé. La collision entre ces métastables et les espèces de l'air est à l'origine de la création d'espèces réactives en phase gazeuse qui se déposent ensuite en phase liquide, permettant de réduire voire de détruire le polluant présent dans l'eau. Dans ce travail, l'étude est séparée en trois parties : le plasma, le liquide et l'efficacité biocide du jet de plasma. Dans ce travail de thèse, l'étude de l'influence de la géométrie de la source, du débit ou encore du mélange gazeux sur la quantité des atomes d'hélium métastable dans le jet de plasma est réalisée par spectroscopie d'absorption laser lors de son interaction avec une cible liquide. L'utilisation de l'inversion d'Abel permet de déterminer la densité et la durée de vie de ces espèces localement dans le jet de plasma. La spectroscopie d'émission optique est utilisée pour obtenir une cartographie de toutes les espèces excitées entre 200 et 1000 nm présentes dans le jet. Ces espèces en phase gazeuse sont également étudiées grâce à l'utilisation d'une caméra intensifiée permettant de suivre l'évolution spatio-temporelle du jet de plasma au cours de sa propagation dans l'air jusqu'à son contact avec le liquide.[...]

Download or read book tude d un plasma d hydrog ne et r alisation d une source de r f rence pour l talonnage en densit de luminance nerg tique dans le domaine ultraviolet written by Patrick Fieffe-Prévost (auteur d'une thèse de sciences.) and published by . This book was released on 1980 with total page 31 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:

Download or read book ETUDE D UN PLASMA D HYDROGENE ET REALISATION D UNE SOURCE DE REFERENCE POUR L ETALONNAGE EN DENSITE DE LUMINANCE ENERGETIQUE DANS LE DOMAINE ULTRAVIOLET written by Patrick Fieffe-Prevost and published by . This book was released on 1980 with total page 239 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: PRINCIPE DE LA METHODE DE MESURE DES PUISSANCES RAYONNEES DANS LE DOMAINE UV; CE PRINCIPE REPOSE SUR L'ETUDE DU RAYONNEMENT CONTINU EMIS PAR UN PLASMA D'HYDROGENE A LA PRESSION ATMOSPHERIQUE CREE PAR UN ARC ELECTRIQUE. DESCRIPTION DE L'ARC ET DU SYSTEME OPTIQUE. MESURE DE LA TEMPERATURE ET DE LA DENSITE ELECTRONIQUE: DIAGNOSTICS SPECTROSCOPIQUES ET MODELES. ANALYSE D'EXPERIENCES A L'AIDE DES DIFFERENTS MODELES (MODELES DE L'ETL COMPLET ET PARTIEL, MODELE DE DIFFUSION). ANALYSE DES ERREURS SYSTEMATIQUES LIEES AU CALCUL DE LA DENSITE SPECTRALE DE LUMINANCE ENERGETIQUE. COMPARAISON ENTRE DIFFERENTES SOURCES