Download or read book D veloppement du proc d de purification du silicium par plasma thermique RF written by Sylvain Rousseau and published by . This book was released on 2009 with total page 197 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: L’objectif de ce travail est le développement d’un procédé de purification du silicium métallurgique par plasma thermique avec polarisation du silicium fondu, dans le but d’augmenter les cinétiques d’élimination des impuretés. Nous avons étudié l’effet simultané de la polarisation et de la composition du plasma sur les processus d’élimination des impuretés. Le suivi en ligne de la purification est effectué par Spectroscopie Optique d’Emission, ce qui permet de comprendre les processus de transfert de matière entre le silicium et le plasma. La composition avant et après traitement des échantillons de silicium, est quant à elle déterminée par LIBS et ICP. Ces trois méthodes basées sur la spectroscopie d’émission ont permis d’établir le rôle de la polarisation et de la composition du plasma sur l’élimination des impuretés. Ainsi, nous avons montré que les cinétiques d’élimination des impuretés métalliques étaient améliorées par l’application d’un potentiel anodique sur l’échantillon avec un traitement sous plasma composé de préférence d’argon pur exclusivement. En revanche, le potentiel électrique n’influe pas de façon sensible sur les cinétiques d’élimination du bore. Seule l’introduction simultanée d’hydrogène et d’oxygène permet de l’augmenter significativement. Par ailleurs, les analyses d’exodiffusion du deutérium ont permis de montrer l’effet du potentiel électrique sur le dopage du silicium par l’hydrogène. L’étude de l’interaction des impuretés avec leur environnement nous conduit à proposer un mécanisme chimique et électrochimique d’élimination des impuretés du bain de silicium fondu.
Download or read book MISE AU POINT D UNE INSTALLATION PILOTE DE PURIFICATION DU SILICIUM PAR PLASMA THERMIQUE INDUCTIF ET MODELISATION DES TRANSFERTS DE MATIERE ET DE CHALEUR PLASMA PARTICULE written by PATRICK.. HUMBERT and published by . This book was released on 1991 with total page pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: CETTE ETUDE A PORTE SUR LA MISE AU POINT D'UN PILOTE PLASMA DE 25 KW DESTINE A PURIFIER DU SILICIUM DE QUALITE METALLURGIQUE EN VUE D'OBTENIR UN MATERIAU REPONDANT AU CAHIER DES CHARGES DE L'INDUSTRIE PHOTOVOLTAIQUE. LA PREMIERE PARTIE DE CETTE ETUDE A CONSISTE A REALISER ET DEVELOPPER UN APPLICATEUR PLASMA DE HAUTE PUISSANCE (25-100 KW) CAPABLE DE REPONDRE AUX IMPERATIFS TECHNIQUES TOUT EN ANALYSANT LES RENDEMENTS ENERGETIQUES SUSCEPTIBLES D'ETRE OBTENUS SELON LES DIFFERENTES CONFIGURATIONS D'EXPLOITATION. A CES BILANS, NOUS AVONS JOINT LA QUALIFICATION DES SILICIUMS RECYCLES DE TYPE N OU P AFIN DE DEFINIR LES CONDITIONS OPERATOIRES OPTIMALES DANS LES DEUX CAS DE FIGURE. LA DEUXIEME PARTIE DE CETTE ETUDE IMPOSAIT D'ENVISAGER DEUX TYPES DE MATERIAUX: LE MATERIAU MASSIF ET LE MATERIAU EN POUDRE. POUR MENER A BIEN CE TRAVAIL, IL ETAIT INDISPENSABLE DE MODELISER LES PHENOMENES DE TRANSFERT DE MATIERE ET DE CHALEUR ENTRE UN PLASMA ET UNE PARTICULE, CE QUI NOUS CONDUIT A DEVELOPPER UN MODELE TENANT COMPTE DES REACTIONS CHIMIQUES EN COUCHE LIMITE. CETTE ETAPE A CONSTITUE UNE PHASE CAPITALE DE NOTRE MEMOIRE PUISQU'ELLE PERMET DESORMAIS D'ABORDER LA CHIMIE ET DE MIEUX COMPRENDRE LES PHENOMENES DE DECOMPOSITION ET DE PURIFICATION SOUS PLASMA. POUR CONCLURE ET VERIFIER CE MODELE, NOUS AVONS TRAITE LE CAS DE LA SYNTHESE DE POUDRES ULTRAFINES DE NITRURE DE SILICIUM ET DE NITRURE DE TITANE PAR VAPORISATION TOTALE DE POUDRES DANS UN PLASMA REACTIF. CETTE ANALYSE PERMET ALORS DE VALIDER LA DEMARCHE DE TRAITEMENT DE POUDRES DANS LE CAS D'UN MATERIAU PARFAITEMENT QUALIFIE
Download or read book Influence de la polarisation sur la purification du silicium fondu par plasma thermique written by Audrey Soric and published by . This book was released on 2006 with total page 217 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: L'objectif de l'étude est de montrer l'influence de la polarisation de l'échantillon de silicium métallurgique (pureté de 99%), pendant son traitement plasma, sur les processus d'élimination de ses impuretés. L'échantillon de silicium est fondu sous plasma d'argon (P=17kW) puis, une fois liquide, un potentiel lui est imposé par l'intermédiaire de son substrat de graphite. Deux techniques d'analyse ont été développées pour le contrôle du procédé. La phase plasma est analysée à l'interface plasma-silicium liquide par OES afin de suivre la cinétique d'élimination des impuretés. La composition des échantillons avant et après traitement est, elle, caractérisée par LIBS. Ces deux méthodes de spectroscopie ont permis de démontrer l'influence du potentiel imposé sur les cinétiques d'évaporation des impuretés. Les résultats obtenus ont montré que les processus d'extraction des impuretés de type métallique étaient gouvernés par des réactions électrochimiques à l'interface plasma-silicium liquide.
Download or read book ETUDE DES TRANSFERTS DE CHALEUR ET DE MATIERE LORS DE LA PURIFICATION DU SILICIUM PAR FUSION SOUS PLASMA THERMIQUE REACTIF written by ELENI.. APOSTOLIDOU and published by . This book was released on 1986 with total page 182 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:
Download or read book ELABORATION DU SILICIUM PHOTOVOLTAIQUE PAR PLASMA THERMIQUE ROLE DE L HYDROGENE ATOMIQUE SUR LA PURIFICATION EN OXYGENE ET LA PASSIVATION DES DEFAUTS written by ISABELLE.. CAZARD-JUVERNAT and published by . This book was released on 1996 with total page 254 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: CE TRAVAIL S'INSCRIT DANS UN EFFORT DE REDUCTION DU COUT DES SYSTEMES PHOTOVOLTAIQUES ET D'AUGMENTATION DU RENDEMENT DE CONVERSION DU SILICIUM MULTICRISTALLIN UTILISE POUR L'ELABORATION DES PHOTOPILES. L'OUTIL UTILISE AU LABORATOIRE (8 ET 25 KW) EST UN PROCEDE DE PURIFICATION PAR PLASMA THERMIQUE INDUCTIF, DONT LES PROPRIETES PHYSICOCHIMIQUES SPECIFIQUES (HAUTE TEMPERATURE 9 000 K, VITESSE DE 25 M/S, FORTES VISCOSITES ET CONDUCTIVITE THERMIQUE, HAUTE REACTIVITE DU FLUX D'HYDROGENE RADICALAIRE 10#2#0 AT/S) PERMETTENT DES TRANSFERTS DE MATIERE ET DE CHALEUR TRES EFFICACES ENTRE LE PLASMA ET UN BARREAU DE SILICIUM. IL CONDUIT AINSI A LA FOIS A LA TRES HAUTE PURETE DU MATERIAU ET A LA PASSIVATION DES DEFAUTS CRISTALLINS, EN FAISANT INTERVENIR EN PARTICULIER L'HYDROGENE ATOMIQUE DU PLASMA. TOUTEFOIS, LES CONDITIONS THERMIQUES DE CRISTALLISATION DU PROCEDE CONDUISENT A LA FORMATION DE DEFAUTS (JOINTS DE GRAINS ET MACLES), ET EN PARTICULIER A UNE FORTE DENSITE DE DISLOCATIONS (N#D#I#S = 10#6#-#7 DIS/CM#2). L'UTILISATION DE PLUSIEURS METHODES DE CARACTERISATION (SPECTROSCOPIE D'EMISSION, SIMS, IRFT A 6K, RESISTIVITE 4 POINTES, ERDA, EXODIFFUSION, NAA, ICP, MEB, RX (LAUE), MICROSCOPIE OPTIQUE) ONT PERMIS DE DEMONTRE LA REACTIVITE DE L'HYDROGENE RADICALAIRE D'UN PLASMA AR + 1% H#2 AVEC L'OXYGENE CONTENU DANS LE SILICIUM DE QUALITE ELECTRONIQUE OU PHOTOVOLTAIQUE. LA PURIFICATION IMPORTANTE, NOTAMMENT EN 0 (97%: 3.10#1#710#1#6 AT/CM#3) ET C (70%: 7.10#1#72.10#1#7 AT/CM#3) S'ACCOMPAGNE D'UNE PASSIVATION DES DEFAUTS CRISTALLINS PAR L'HYDROGENE RADICALAIRE DU PLASMA (2.10#1#5 AT/CM#3). LA LIAISON ETABLIE RESISTE A UNE FORTE MONTEE EN TEMPERATURE (1 000 K). AINSI LES FORTES LONGUEURS DE DIFFUSION LOCALES (250 M) CONFIRMENT L'AMELIORATION DE LA PURETE DU MATERIAU EN ELEMENTS METALLIQUES ET METALLOIDIQUES (O, C) ET LA CICATRISATION DES DEFAUTS CRISTALLINS PAR L'HYDROGENE ATOMIQUE DU PLASMA. LE TRANSFERT TECHNOLOGIQUE SUR SITE INDUSTRIEL (100 KW) ET LES PREMIERS ESSAIS SUR LA PURIFICATION CONFIRMENT L'EFFICACITE DU PLASMA AR + H#2 PUISQUE LE RENDEMENT DE CONVERSION PHOTOVOLTAIQUE AUGMENTE DE 12,5% A 14%
Download or read book ETUDE DES TRANSFERTS DE CHALEUR ET DE MATIERE ENTRE UN PLASMA HF ET UNE PARTICULE DE SILICIUM APPLICATION A L ELABORATION D UN DEPOT written by SEBASTIEN.. MAGNAVAL and published by . This book was released on 1999 with total page 224 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: CE TRAVAIL OUVRE LE CHAMP EXPLORATOIRE DE L'ELABORATION DE COUCHES MINCES DE SILICIUM PAR DEPOT RAPIDE EN PLASMA THERMIQUE. L'OBJECTIF RECHERCHE EST L'OBTENTION D'UN MATERIAU DE HAUTE PURETE A PROPRIETE SEMICONDUCTRICE DANS LE CADRE DES APPLICATIONS PHOTOVOLTAIQUES. L'ETUDE EFFECTUEE EST CENTREE SUR LA MISE AU POINT D'UN PROCEDE DE FUSION DE PARTICULES DE SILICIUM DE DIAMETRES INITIALS VARIABLES (50 A 200 M) PAR TRANSFERT THERMIQUE ENTRE LE PLASMA ARGON/HYDROGENE ET LA PARTICULE. L'HYDRODYNAMIQUE DE L'ECOULEMENT, LES PROPRIETES DE TRANSPORT DU PLASMA, LES PROPRIETES PHYSIQUES DU MATERIAU CONSTITUENT LES PREMIERES ETAPES DU TRAVAIL A ANALYSER. IL CONVIENT EN PARTICULIER DE MESURER LE TEMPS DE SEJOUR DES PARTICULES DANS LES CHAMPS DE TEMPERATURES DU JET PLASMA ENGENDRE PAR LA TORCHE RF. CETTE ETUDE EXPERIMENTALE ASSOCIANT ANEMOMETRIE DOPPLER LASER, POUR LA MESURE DES VITESSES, ET EMISSION ATOMIQUE DES ESPECES DANS LE PLASMA, PERMET DE SUIVRE LES ECHANGES DE MATIERE SUR LA TRAJECTOIRE DES PARTICULES ET PAR LA MEME, PERMET DE REMONTER AUX ECHANGES DE CHALEUR RESPONSABLES DES PROCESSUS DE FUSION, D'EVAPORATION ET DE PURIFICATION DU MATERIAU. LA NATURE DU GAZ PLASMAGENE ET EN PARTICULIER LA TENEUR EN HYDROGENE DU MELANGE ARGON/HYDROGENE CONSTITUE UNE ETAPE IMPORTANTE PUISQU'ELLE AGIT SIMULTANEMENT SUR LES PHENOMENES DE TRANSFERT DE CHALEUR ET SUR LE PROCESSUS DE MODIFICATION CHIMIQUE DU MATERIAU (REDUCTION DES OXYDES, DIFFUSION DE L'HYDROGENE A CUR). LA QUALIFICATION DES COUCHES OBTENUES PAR MEB, XPS ET SPECROSCOPIE DE MASSE A PARTIR D'ECHANTILLONS TESTS PERMET DE RELIER LE PROCEDE DE FUSION ET L'ELABORATION D'UN MATERIAU COUCHE MINCE.
Download or read book MISE AU POINT ET CONTROLE D UN PROCEDE D ELABORATION DE DEPOT DE SILICIUM A FINALITE PHOTOVOLTAIQUE CARACTERISATION SPECTROSCOPIQUE ET HYDRODYNAMIQUE DU PLASMA INDUCTIF RF CARACTERISATION PHYSICO CHIMIQUE DU DEPOT DE SILICIUM written by FADI.. KRAYEM and published by . This book was released on 2000 with total page 300 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: L'OBJECTIVE DE CETTE ETUDE EST L'ELABORATION D'UN DEPOT DE SILICIUM PAR PROJECTION DE PLASMA THERMIQUE RF SUR UN SUBSTRAT DESTINE A L'APPLICATION PHOTOVOLTAIQUE. DANS CE TRAVAIL, NOUS AVONS CORRELE LE ROLE JOUE PAR L'HYDROGENE INCLUS DANS LE MATERIAU (PASSIVATION LES LIAISONS PENDANTES ET LES POINTS DE RECOMBINAISONS ELECTRIQUES) ET LA PRODUCTION DES ETATS EXCITES DE L'HYDROGENE PAR LE PLASMA RF ARGON-HYDROGENE. PAR LA SPECTROSCOPIE D'EMISSION NOUS AVONS IDENTIFIE LA PRESENCE DANS LE PLASMA DES ETATS EXCITES ELEVES DE L'HYDROGENE ATOMIQUE (JUSQU'A N = 8), LEUR DISTRIBUTION SPATIALE VARIE LORS DE L'AJOUT D'HELIUM DANS LE GAZ PLASMAGENE. CE PHENOMENE PERMET DE DOUBLER LA TENEUR EN HYDROGENE DANS LE SILICIUM MASSIF TRAITE PAR PLASMA AR+H 2+HE (4,42.10 1 5 AT.CM - 3) PAR RAPPORT AU PLASMA D'AR + H 2 (2,2.10 1 5 AT. CM - 3). CETTE TENEUR PEUT ATTEINDRE 10 1 9 AT.CM - 3 PAR L'INJECTION AXIALE DE LA POUDRE DE SILICIUM DANS LE JET PLASMA. LA MESURE DES TEMPS DE SEJOURS DE 10 MSEC A 30 MSEC DES PARTICULES DE SILICIUM EN VOL A ETE EFFECTUEE PAR LA TECHNIQUE D'ANEMOMETRIE LASER DOPPLER. AINSI LA VITESSE DES PARTICULES, ET LA DISTANCE DE PROJECTION DETERMINENT LE TAUX D'EVAPORATION DE SILICIUM ET LA MESURE DES DIAMETRES DES PARTICULES EN VOL VALIDE LE TRANSFERT DE MATIERE. LA CROISSANCE DE DEPOT EST LIEE AUX PROCESSUS DE TRANSFERT DE CHALEUR ET DE MATIERE PARTICULE/SUBSTRAT. UNE FAIBLE CONDUCTIVITE THERMIQUE DE SUBSTRAT COMME LA MULLITE CONSTITUE UNE BARRIERE THERMIQUE QUI PERMET UN REFROIDISSEMENT CONTROLE DES PARTICULES PROJETEES. LA CHALEUR APPORTEE PAR CES PARTICULES ABOUTIT A LA FORMATION SUR LE SUBSTRAT D'UNE GOUTTE LIQUIDE DONT LA CRISTALLISATION DIRECTIONNELLE DEBUTE LORS DE L'ARRET DE LA PROJECTION DES PARTICULES. LA PURIFICATION DU DEPOT MIS EN EVIDENCE PAR EDX, A EU LIEU PAR SEGREGATION DES IMPURETES DE LA PHASE SOLIDE VERS LA PHASE LIQUIDE, LA VITESSE DE DEPOT ATTEIGNANT 600-1500 M.H - 1 SELON LA TAILLE DES PARTICULES DE SILICIUM ET LA VITESSE DE PROJECTION.
Download or read book D veloppement contr le et mod lisation d un proc d de projection de poudres de silicium par plasma RF written by Malek Benmansour and published by . This book was released on 2003 with total page 502 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:
Download or read book Lake Pavin written by Télesphore Sime-Ngando and published by Springer. This book was released on 2018-07-07 with total page 421 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: This book represents the first multidisciplinary scientific work on a deep volcanic maar lake in comparison with other similar temperate lakes. The syntheses of the main characteristics of Lake Pavin are, for the first time, set in a firmer footing comparative approach, encompassing regional, national, European and international aquatic science contexts. It is a unique lake because of its permanently anoxic monimolimnion, and furthermore, because of its small surface area, its substantially low human influence, and by the fact that it does not have a river inflow. The book reflects the scientific research done on the general limnology, history, origin, volcanology and geological environment as well as on the geochemistry and biogeochemical cycles. Other chapters focus on the biology and microbial ecology whereas the sedimentology and paleolimnology are also given attention. This volume will be of special interest to researchers and advanced students, primarily in the fields of limnology, biogeochemistry, and aquatic ecology.
Download or read book ICREEC 2019 written by Ahmed Belasri and published by Springer Nature. This book was released on 2020-06-10 with total page 659 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: This book highlights peer reviewed articles from the 1st International Conference on Renewable Energy and Energy Conversion, ICREEC 2019, held at Oran in Algeria. It presents recent advances, brings together researchers and professionals in the area and presents a platform to exchange ideas and establish opportunities for a sustainable future. Topics covered in this proceedings, but not limited to, are photovoltaic systems, bioenergy, laser and plasma technology, fluid and flow for energy, software for energy and impact of energy on the environment.
Download or read book Handbook of Soil Analysis written by Marc Pansu and published by Springer Science & Business Media. This book was released on 2007-04-18 with total page 996 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: This handbook is a reference guide for selecting and carrying out numerous methods of soil analysis. It is written in accordance with analytical standards and quality control approaches. It covers a large body of technical information including protocols, tables, formulae, spectrum models, chromatograms and additional analytical diagrams. The approaches are diverse, from the simplest tests to the most sophisticated determination methods.
Download or read book French English Medical Dictionary written by Alfred Gordon and published by . This book was released on 1921 with total page 180 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt:
Download or read book Soil Analysis written by J. Gautheyrou and published by CRC Press. This book was released on 2001-01-01 with total page 514 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: The objective of this book is to provide a better understanding of tools for soil analysis in order to use them more efficiently. It covers sampling problems as well as difficulties relating to actual analysis and quality control.
Download or read book III Nitride Semiconductors written by M.O. Manasreh and published by Elsevier. This book was released on 2000-12-06 with total page 463 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Research advances in III-nitride semiconductor materials and device have led to an exponential increase in activity directed towards electronic and optoelectronic applications. There is also great scientific interest in this class of materials because they appear to form the first semiconductor system in which extended defects do not severely affect the optical properties of devices. The volume consists of chapters written by a number of leading researchers in nitride materials and device technology with the emphasis on the dopants incorporations, impurities identifications, defects engineering, defects characterization, ion implantation, irradiation-induced defects, residual stress, structural defects and phonon confinement. This unique volume provides a comprehensive review and introduction of defects and structural properties of GaN and related compounds for newcomers to the field and stimulus to further advances for experienced researchers. Given the current level of interest and research activity directed towards nitride materials and devices, the publication of the volume is particularly timely. Early pioneering work by Pankove and co-workers in the 1970s yielded a metal-insulator-semiconductor GaN light-emitting diode (LED), but the difficulty of producing p-type GaN precluded much further effort. The current level of activity in nitride semiconductors was inspired largely by the results of Akasaki and co-workers and of Nakamura and co-workers in the late 1980s and early 1990s in the development of p-type doping in GaN and the demonstration of nitride-based LEDs at visible wavelengths. These advances were followed by the successful fabrication and commercialization of nitride blue laser diodes by Nakamura et al at Nichia. The chapters contained in this volume constitutes a mere sampling of the broad range of research on nitride semiconductor materials and defect issues currently being pursued in academic, government, and industrial laboratories worldwide.
Download or read book Guide to the International Registration of Marks under the Madrid Agreement and the Madrid Protocol written by World Intellectual Property Organization and published by WIPO. This book was released on 2019-09-11 with total page 191 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: This Guide is primarily intended for applicants and holders of international registrations of marks, as well as officials of the competent administrations of the Member States of the Madrid Union. It leads them through the various steps of the international registration procedure and explains the essential provisions of the Madrid Agreement, the Madrid Protocol and the Common Regulations.
Download or read book Silica written by Peter J. Heaney and published by Walter de Gruyter GmbH & Co KG. This book was released on 2018-12-17 with total page 624 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Volume 29 of Reviews in Mineralogy provides an updated silica review which focuses on the most recent developments. This book describes the crystal structures and phase transitions of silica and its stuffed derivatives; bridges the relationship between the microstructural character of real silica minerals and the behavior of silica in the geological environment; covers Quantum mechanical considerations of the Si-O bond; shows how calculations based upon first-principles theory can explain and predict silica transitions at high temperatures and pressures; covers spectroscopic analyses of silica and how they reveal vibrational behaviors in response to variations in temperature, pressure, and composition and finally details the uses of silica for industrial purposes.
Download or read book ZnO Thin Films written by Paolo Mele and published by . This book was released on 2019 with total page 0 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: Zinc oxide (ZnO) is an n-type semiconductor with versatile applications such as optical devices in ultraviolet region, piezoelectric transducers, transparent electrode for solar cells and gas sensors. This book "ZnO Thin Films: Properties, Performance and Applications" gives a deep insight in the intriguing science of zinc oxide thin films. It is devoted to cover the most recent advances and reviews the state of the art of ZnO thin films applications involving energy harvesting, microelectronics, magnetic devices, photocatalysis, photovoltaics, optics, thermoelectricity, piezoelectricity, electrochemistry, temperature sensing. It serves as a fundamental information source on the techniques and methodologies involved in zinc oxide thin films growth, characterization, post-deposition plasma treatments and device processing. This book will be invaluable to the experts to consolidate their knowledge and provide insight and inspiration to beginners wishing to learn about zinc oxide thin films.
