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Book D  p  t chimique en phase vapeur de siliciures pour la micro  lectronique

Download or read book D p t chimique en phase vapeur de siliciures pour la micro lectronique written by Elisabeth Blanquet and published by . This book was released on 1990 with total page 134 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: LES DISILICIURES DE METAUX REFRACTAIRES SONT D'EXCELLENTS CANDIDATS A UNE UTILISATION COMME MATERIAUX D'INTERCONNEXIONS ET DE CONTACT EN TECHNOLOGIE SILICIUM A TRES HAUT NIVEAU D'INTEGRATION. DANS LE CADRE DES RECHERCHES DE PROCEDES POUR ELABORER DES COUCHES MINCES DE CES MATERIAUX, NOUS NOUS SOMMES INTERESSES A LA TECHNIQUE DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR (CVD). CETTE ETUDE A PORTE ESSENTIELLEMENT SUR LES DISILICIURES DE TANTALE, TASI#2 ET DE TUNGSTENE, WSI#2. UNE ANALYSE THERMODYNAMIQUE PREALABLE DES SYSTEMES CHIMIQUES TA-SI-H-O-CL ET W-SI-H-O-CL- OU F A PERMIS DE DETERMINER LES VALEURS DES PARAMETRES EXPERIMENTAUX (TEMPERATURE DE DEPOT, PRESSION TOTALE, PRESSIONS PARTIELLES INITIALES DES GAZ ACTIFS) THEORIQUEMENT FAVORABLES A LA FORMATION DES DISILICIURES. A PARTIR DE CES RESULTATS, UN REACTEUR CVD, A MURS FROIDS, FONCTIONNANT A PRESSION ATMOSPHERIQUE A ETE CONCU. L'ORIGINALITE DE CELUI-CI RESIDE DANS L'ELABORATION ET LE TRANSPORT DU PRECURSEUR METALLIQUE (CHLORURE DE TA ET W) QUI S'EFFECTUENT DANS LA CHAMBRE DE CHLORURATION IN SITU. DES DEPOTS DE SILICIURES DE TANTALE ET DE TUNGSTENE ONT ETE REALISES. LA CONFRONTATION DES RESULTATS THERMODYNAMIQUES ET EXPERIMENTAUX REVELE UN ACCORD TRES SATISFAISANT ENTRE PREVISIONS ET EXPERIENCES

Book ETUDE DU DEPOT SELECTIF DE SILICIURE DE TITANE EVALUATION D UN NOUVEAU SYSTEME DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR A PRESSION REDUITE ET CHAUFFAGE RAPIDE

Download or read book ETUDE DU DEPOT SELECTIF DE SILICIURE DE TITANE EVALUATION D UN NOUVEAU SYSTEME DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR A PRESSION REDUITE ET CHAUFFAGE RAPIDE written by CLAIRE.. ATTUYT and published by . This book was released on 1992 with total page pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: LA MINIATURISATION DE PLUS EN PLUS POUSSEE EN MICRO-ELECTRONIQUE CONDUIT A LA RECHERCHE DE MATERIAUX NOUVEAUX PLUS PERFORMANTS, QUE CE SOIT DANS LE DOMAINE DES ISOLANTS ELECTRIQUES COMME DANS CELUI DES CONDUCTEURS. PARMI LES CONDUCTEURS, LE SILICIUM DE TITANE PRESENTE UNE CONDUCTIVITE ELECTRIQUE ENVIRON DIX FOIS PLUS FAIBLE QUE CELLE DU SILICIUM POLYCRISTALLIN ACTUELLEMENT UTILISE. LA METHODE D'ELABORATION UTILISEE EST LE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR A PRESSION REDUITE (LOW PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION). CETTE METHODE A L'AVANTAGE DE PERMETTRE DE REALISER DES DEPOTS SELECTIFS (ABSENCE DE DEPOT SUR LES ZONES RECOUVERTES D'OXYDE DE SILICIUM ET DEPOT SUR LES ZONES OU LE SILICIUM SOUS-JACENT A ETE MIS A NU). GRACE A CETTE SELECTIVITE DE DEPOT PLUSIEURS ETAPES DE PHOTOLITHOGRAPHIE ET DE GRAVURE PEUVENT ETRE SUPPRIMEES DU PROCEDE DE FABRICATION DES DISPOSITIFS A CIRCUITS INTEGRES. DANS CE TRAVAIL, UNE NOUVELLE MACHINE DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR A ETE UTILISEE: CELLE-CI ALLIANT LES TECHNIQUES DE RECUIT RAPIDE PAR FOUR A LAMPES INFRAROUGES (APPELE RAPID THERMAL PROCESSING) A CELLES DU DEPOT PAR L.P.C.V.D. EST APPELEE RAPID THERMAL LOW PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION. APRES UNE ETUDE PRELIMINAIRE DE DEPOT DE SILICIUM POLYCRISTALLIN PERMETTANT DE TESTER CETTE NOUVELLE MACHINE, LE DEPOT SELECTIF DE SILICIURE DE TITANE EST ETUDIE EN UTILISANT PLUSIEURS PHASES GAZEUSES DE DEPART: LE CHLORURE DE TITANE PUR, LE CHLORURE DE TITANE HYDROGENE ET LE MELANGE CHLORURE DE TITANE-HYDROGENE-SILANE. A PARTIR D'UNE ETUDE THERMODYNAMIQUE, BASEE SUR LES RESULTATS EXPERIMENTAUX, LES MECANISMES DE DEPOT CORRESPONDANTS SONT PROPOSES ET COMPARES AVEC CEUX DE LA LITTERATURE

Book D  p  t chimique en phase vapeur    l int  rieur d une d  charge   lectrique de courant continu

Download or read book D p t chimique en phase vapeur l int rieur d une d charge lectrique de courant continu written by Roger Botton and published by . This book was released on 1991 with total page 123 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: NOUS PROPOSONS UN PROCEDE ORIGINAL POUR EFFECTUER DES DEPOTS DE COUCHES MINCES DE DIELECTRIQUES ET DE SILICIUM POLYCRISTALLIN A BASSE TEMPERATURE (MOINS DE 300C) ET SOUS BASSE PRESSION (DE 1 A 2 TORR) DE QUALITE MICRO-ELECTRONIQUE. LES GAZ DE LA REACTION CHIMIQUE SONT UTILISES POUR CONSTITUER UNE LAMPE A DECHARGE ELECTRIQUE FICTIVE QUI OPERE EN COURANT CONTINU DANS LA ZONE DE DECHARGE LUMINEUSE NORMALE. LES SUBSTRATS SONT POSITIONNES PARALLELEMENT AUX LIGNES DE COURANT DE LA DECHARGE (MINIMISATION DE LA CONTAMINATION ET DE LA DEGRADATION). PLUSIEURS MODES D'ACTIVATION PEUVENT AINSI INTERVENIR SIMULTANEMENT. LE TUBE FICTIF REALISE EST UN PETIT FOUR TUNNEL NON ETANCHE ET DEMONTABLE PLACE SOUS UNE CLOCHE A VIDE. LES ELECTRODES CONSTITUENT SES EXTREMITES. LES SUBSTRATS A COUVRIR SONT DISPOSES SUR LA SOLE CHAUFFEE. LES REACTIFS SONT INTRODUITS A L'ANODE ET EVACUES A LA CATHODE. L'INFLUENCE DES DIFFERENTS PARAMETRES (PRESSION, TEMPERATURE, COMPOSITION, INTENSITE DU COURANT, TEMPS DE DEPOT, LA POSITION LE LONG DE LA DECHARGE) A ETE ETUDIEE QUANT A LA CINETIQUE DE LA FORMATION ET LA QUALITE DES COUCHES. LES FILMS DIELECTRIQUES OBTENUS ONT ETE SOUMIS A UNE ANALYSE PHYSICO-CHIMIQUE (SPECTROMETRIE INFRAROUGE ET SPECTROSCOPIE RAMAN, ANALYSE SIMS, ELLIPSOMETRIE, ...). UNE EXPLOITATION DES CARACTERISTIQUES ELECTRIQUES DES STRUCTURES MIS REALISEES PAR METALLISATION DES COUCHES A PERMIS UNE EVALUATION DE LA QUALITE ELECTRIQUE

Book Diffusion in Materials   DIMAT 2011

Download or read book Diffusion in Materials DIMAT 2011 written by Igor Bezverkhyy and published by Trans Tech Publications Ltd. This book was released on 2012-04-12 with total page 600 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: The International Conference on Diffusion in Materials (DIMAT) is the benchmark conference series for diffusion in solids. DIMAT 2011 was organized by the University of Bourgogne in association with CNRS, Dijon (France). The conference showcased new results concerning theoretical tools as well as applied research approaches. Diffusion processes affect all types of materials: nanomaterials, materials for energy, metallurgy, glasses and ceramics, but each requires its own numerical tools. Volume is indexed by Thomson Reuters CPCI-S (WoS). This volume comprises most of the contributions presented at DIMAT 2011: 4 plenary lectures delivered by famous high-level scientists plus 88 contributions in the form of keynote lectures, talks and posters.